奧林巴斯BX53P正置偏光顯微鏡觀察方式

奧林巴斯BX53P在偏振光應用中，采用了光學校正和光學設計相結合的方法，可提供優良的偏振光應用性能。一條擴展的兼容的生產線使其具有足夠的通用性來處理幾乎任何領域的觀測和測量應用。可選的補償測量等全系列的眾多優秀功能。BX53P足以應付在幾乎所有的領域觀察和測量應用。

奧林巴斯BX53P正置偏光顯微鏡觀察方式的特點：

UIS2系統：可以防止光學顯微鏡性能的惡化，消除影響因素，即使是在光路中引入了類似的光學元件，如暗片等。保持高度的系統靈活性，BX53P還接受中間附件，可用于副系列系統，以及相機和成像系統。

精密的設計和制造技術應用于-P和-P目標降低內部應變.粉末冶金顯微鏡具有高EF值濾光片和分析器，使圖像對比度更高。為了滿足研究和應用的多樣性要求，設計了普適的-P系列目標，以適應除偏振光觀測之外的范圍廣泛的觀察方法，包括轉制方法和熒光顯微鏡方法。

范圍廣泛的補償器：六種不同的可用于普通-P顯微鏡，允許測量不同的亞單位水平，范圍從0到20λ。為了便于測量，更高的圖像對比度可以通過使用更高或更高的等級來改變整個視場中的更高的圖像對比度。

銳利的顯微成像：以U-CPA為觀察依附，復律與觀察之間的關系簡單、快速.圖像對焦簡單、準確。使用一個更好的場停止使得獲得一致的清晰的圖像成為可能。

堅固準確的轉臺：附在旋轉臺上的旋轉機構允許試樣平穩旋轉.此外，在每45度有一個點擊停止機構提供精確的測量.隨著增加一個雙機械階段的選擇，進一步的X-Y運動是可能的。

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