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HWN-P1500納米激光直寫系統

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 蘇州華維納納米科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產地 蘇州工業園區生物納米園A4-107
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2024/9/25 16:48:12
  • 訪問次數 2146

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公司簡介:

   蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業園區創業人才項目"的支持下,于2011年注冊成立的高科技創新型公司,公司由歸國和國內的高層次人才組成,公司設有博士后流動站。公司曾先后獲得國家科技部(國家重大大科學儀器設備開發專項)和姑蘇、江蘇省雙創人才、以及蘇州x-nano大科學裝置等項目支持,并于20126月 完成首輪風險融資,成功研發出擁有自主知識產權的三大系列新型納米激光光刻系統,2015年被認定為高新技術企業。

公司近年來,不斷加大研發力度,已經定型了LDW-P LDW-L兩大系列新型激光直寫設備,實現了激光直寫設備的更新換代。該新型激光直寫采用全新的技術路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實現納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀,可以廣泛應用于各種受體材料,極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。





無掩模納米光刻系統,激光直寫設備

應用領域 化工,生物產業,電子,電氣,綜合 激光波長 405nm
特征尺寸 100nm 激光功率 120mW至300mW(可選)
刻寫范圍 1500umx1500um

HWN-P1500納米激光直寫系統?是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統,根據壓電平臺的移動范圍,分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號,具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征,能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規模生產。該系列產品還可根據用戶特殊需求,提供定制設計和制造。

新概念技術:華維納HWN-P1500納米激光直寫系統通過激光與材料的非線性相互作用,成功突破了光學衍射極限的限制,實現了納米尺度的加工分辨力,最小的孔洞直徑可達50nm。

多受體材料:華維納LDW-P系列通過高精度的功率調制(<1‰),可兼容包括金屬薄膜、無機相變材料、光刻膠等多種受體材料。


可靠易用性:華維納HWN-P擁有強大的軟件功能,支持標量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式,供用戶根據不同的刻寫場景而選擇。另外,LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析,使用戶一站式完成設計、刻寫、分析等步驟, 大大提高了工作效率。











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