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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子,電氣,綜合 |
|---|---|---|---|
| 品牌 | 甲岸 |
甲岸小型等離子去膠機(jī)屬于真空等離子清洗機(jī)系列
隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，微波等離子去膠機(jī)在現(xiàn)代工業(yè)中發(fā)展迅速。原因也很簡(jiǎn)單。選擇等離子去膠機(jī)是因?yàn)椴僮骱?jiǎn)單，工作效率高，成本低，環(huán)保，去膠后表面光滑。以下是等離子去膠機(jī)的使用方法:
1、調(diào)整適當(dāng)?shù)?strong>頻率：
頻率越高，氧越容易電離成等離子體。如果頻率過(guò)高，電子振幅比平均自由度短，則降低電子與氣體分子碰撞的概率，降低電離率。通常，微波等離子體去膠機(jī)的常用頻率為13.56mHz和2.45gHZ。
2、調(diào)整適當(dāng)功率：
至于一定量的氣體，功率大，等離子體中的活性粒子密度高，去膠速度快；但當(dāng)功率增加到一定值時(shí)，能消耗的活性離子就會(huì)飽滿(mǎn)，無(wú)論功率有多大，去膠速度都不會(huì)顯著增加。由于功率大，基板溫度高，微波等離子體去膠機(jī)的功率應(yīng)根據(jù)技術(shù)要求進(jìn)行調(diào)整。甲岸小型等離子去膠機(jī)
3、調(diào)整合適的真空度：
適當(dāng)?shù)恼婵斩瓤梢栽黾与娮舆\(yùn)動(dòng)的平均自由度，因此從電場(chǎng)獲得的能量很大，有利于電離。當(dāng)氧氣流量必須準(zhǔn)時(shí)時(shí)，真空度越高，氧氣的相對(duì)份額就越大，活性粒子的濃度也就越大。但如果真空度過(guò)高，活性粒子的濃度就會(huì)降低。
4、氧氣流量調(diào)整：
氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但如果流量過(guò)大，離子復(fù)合概率會(huì)增加，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由度會(huì)縮短，電離強(qiáng)度會(huì)降低。如果反應(yīng)室壓力不變，流量增加，也會(huì)增加提取的氣體量，同時(shí)也會(huì)增加尚未參與反應(yīng)的活性粒子提取量，因此流量的增加對(duì)去膠速率的影響不大。
甲岸小型真空等離子清洗機(jī)
Plasma等離子清洗機(jī)一般包括真空系統(tǒng),電源系統(tǒng),供氣系統(tǒng)和清洗室,清洗室內(nèi)安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應(yīng)不同的清洗場(chǎng)合。
清洗時(shí)首先運(yùn)行真空泵對(duì)真空室進(jìn)行抽氣,當(dāng)真空室達(dá)到一定真空度后,由充氣閥充入一定氣壓工藝氣體,調(diào)節(jié)氣體流量,使得真空室內(nèi)的真空度保持在30Pa左右,然后給放電電極通入射頻電源,當(dāng)調(diào)節(jié)電源的輸出功率到合適時(shí),透過(guò)玻璃觀察窗，可以觀察到真空腔體中有輝光現(xiàn)象產(chǎn)生,證明產(chǎn)生了等離子體。
等離子清洗機(jī)的機(jī)理:
主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
甲岸小型真空等離子清洗機(jī)
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