ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀RTM

ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的優(yōu)勢(shì)

工藝開發(fā)與優(yōu)化

使用單一ALD循環(huán)可快速和簡(jiǎn)易地開發(fā)和優(yōu)化ALD工藝。ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀顯示了高達(dá)40ms分辨率的吸附和解吸過(guò)程。顯著節(jié)省了研發(fā)時(shí)間，襯底，前驅(qū)體和氣體。

節(jié)省前驅(qū)體

通過(guò)ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀，ALD工藝變得更加有效。節(jié)省了前驅(qū)體和工藝時(shí)間。

前驅(qū)體控制

當(dāng)前驅(qū)體供應(yīng)快要用盡時(shí)，ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀會(huì)立即檢測(cè)到的每個(gè)周期的增長(zhǎng)變化。

SENTECH ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ALD循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ALD循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是SENTECH ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。

創(chuàng)新的ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是特別為快速和有效的工藝開發(fā)而設(shè)計(jì)，可優(yōu)化SENTECH原子層沉積設(shè)備。該軟件使SENTECH ALD系統(tǒng)和ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀易于操作。ALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀集成到SENTECH ALD系統(tǒng)軟件中，確保操作簡(jiǎn)單。