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日立分析儀器(上海)有限公司

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>光譜>光纖光譜儀>NIR 近紅外光譜儀

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NIR 近紅外光譜儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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      我們是誰(shuí)

 上海復(fù)享光學(xué)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱:復(fù)享光學(xué))是中國(guó)*的光譜分析與制程檢測(cè)供應(yīng)商,在微納光電子與生命科學(xué)等領(lǐng)域,為客戶提供優(yōu)質(zhì)的光譜解決方案。公司成立于2011年,總部坐落于上海楊浦,在北京和倫敦分別設(shè)有辦事處和分公司。

 復(fù)享光學(xué)是由技術(shù)與市場(chǎng)雙引擎驅(qū)動(dòng)的高科技企業(yè),崇尚賦能與承諾的開放文化。我們的團(tuán)隊(duì)由諸多領(lǐng)域的高層次人才組成,985院校畢業(yè)生占比超過(guò)70%,博士成員9人。

 復(fù)享光學(xué)于2016年登錄新三板。

 

公司介紹圖片.png            “讓光譜簡(jiǎn)單” 是我們的使命

      愿景與使命

 光譜改變生活,是復(fù)享光學(xué)創(chuàng)立的愿景,是我們追求的至高目標(biāo)。我們相信,光譜因其對(duì)光、物質(zhì)和結(jié)構(gòu)的天然敏感,將會(huì)在科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)、生產(chǎn)制造和大眾生活中發(fā)揮更為重要的作用,并終改變我們的生活形態(tài),提升生活品質(zhì)。

 復(fù)享光學(xué)立志發(fā)展“全光譜”技術(shù),簡(jiǎn)化科研與制程場(chǎng)景下所面臨的復(fù)雜問(wèn)題。讓光譜簡(jiǎn)單,是我們每天的使命與追求。

 

產(chǎn)品與服務(wù)

 復(fù)享光學(xué)在光譜分析行業(yè)深耕10年,在微型光譜儀、角分辨光譜和共焦光譜方面,擁有獨(dú)到且具有新穎性的技術(shù),具有強(qiáng)大的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

 2020年,復(fù)享光學(xué)獲批成立“上海微納制程智能檢測(cè)工程中心(SERCOM)”,專業(yè)定位于在包括集成電路芯片、光芯片、生物芯片、AR/VR 和*顯示等微納制造領(lǐng)域,為產(chǎn)業(yè)提供檢測(cè)技術(shù)服務(wù)。

 

公司優(yōu)勢(shì)

 復(fù)享光學(xué)的發(fā)展具有堅(jiān)實(shí)的研發(fā)支撐。公司擁有近千平方米的省部級(jí)工程技術(shù)研究中心,與高校、研究院所合作建有5個(gè)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室,共同圍繞微納技術(shù)開展深入研究。

 得益于持續(xù)的研發(fā)投入,公司累計(jì)承擔(dān)了十余項(xiàng)國(guó)家及省部級(jí)科技項(xiàng)目,擁有高/新技術(shù)企業(yè)資質(zhì)、上海市優(yōu)/秀技術(shù)帶頭人、上海市專精特新中小企業(yè)、楊浦區(qū)科技小巨人等稱號(hào)。

 截至2019年,公司共獲得43項(xiàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán),2項(xiàng)技術(shù)成果轉(zhuǎn)化,在光譜技術(shù)微型化、角分辨光譜、共焦光譜和深度學(xué)習(xí)等方面均擁有關(guān)鍵專/利,是“全光譜+人工智能”技術(shù)的首倡者

之一
光譜儀

 

美國(guó)*&工程院院士 Prof. E. Yablonovitch(左圖);時(shí)任上海市委書記、市長(zhǎng)*一行(右圖)

 

 

 

 

光譜儀、熒光光譜儀、顯微光譜儀、積分球透過(guò)率儀、顯微分光光度計(jì)

按探測(cè)器 CCD 動(dòng)態(tài)范圍 7500:1
分辨率 10.6nm @ 25μm slit(@1529.58nm)nm 光譜范圍 近紅外,900-2500 nmnm
光譜范圍 近紅外,900-2500 nmnm 價(jià)格區(qū)間 面議
靈敏度 高靈敏度 信噪比 7500:1 @10 ms
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,電子 雜散光 600nm時(shí)<0.1%
近紅外光譜儀 NIR2500 + 近紅外光譜光纖 
近紅外光譜儀 NIR2500 + 近紅外光譜光纖

近紅外光譜儀典型應(yīng)用領(lǐng)域:
透反射/吸收光譜 由于樣品的多樣和測(cè)試條件的復(fù)雜,光譜儀需要具有較強(qiáng)的系統(tǒng)通用性和適應(yīng)性。
在線成分分析 在線成分分析,例如煙草中的水分分析,需要光譜儀具有 ms 級(jí)的光譜采集和傳輸能力;同時(shí),需要近紅外光譜儀具有芯片級(jí)的內(nèi)制冷能力,以滿足穩(wěn)定性的要求。
      
  NIR 系列 近紅外光譜儀 具有以下顯著特點(diǎn):1.瞬態(tài) 1ms 光譜采集  NIR 系列 近紅外光譜儀采用 Hamamatsu 陣列化 InGaAs 探測(cè)器,區(qū)別于傳統(tǒng)掃描式光譜儀,能在 ms 量級(jí)采集光譜,非常適合在實(shí)驗(yàn)室中快速完成實(shí)驗(yàn)設(shè)想;2.900~2500nm 寬波譜  NIR2500 采用 長(zhǎng)波型 InGaAs 探測(cè)器,配合紅外消除高階衍射濾光片,將近紅外光譜探測(cè)波譜拓展至 900~2500nm;3.深度 TEC 制冷  NIR 系列 近紅外光譜儀采用 芯片級(jí)內(nèi)制冷技術(shù),對(duì) InGaAs 探測(cè)器進(jìn)行深度制冷,并有效解決低溫結(jié)露問(wèn)題,將信噪比提升至 15,000:1 水平。
      

百種組合,隨想而生
百種組合,隨想而生
 
技術(shù)參數(shù)
 
關(guān)鍵技術(shù)
 
近紅外光譜儀型號(hào)
間隔
10*
(25)*
50*
100*
200*
NIR1700

3.1 4.7 5.3 6.3 7.8 12.5
NIR2500

6.3 8.8 10.6 12.5 15.6 25.0
 

      ±20% (nm) FWHM
||Hide
備注:(1) “間隔”表示探測(cè)器像素點(diǎn)的波長(zhǎng)間隔;(*) 數(shù)值表示狹縫寬度,單位 μm;(2) 分辨率數(shù)值是理論值,實(shí)際允許 20% 偏差。 

NIR1700 近紅外光譜儀
項(xiàng)目
探測(cè)范圍: 900 ~ 1700nm,具體視光柵而定
波長(zhǎng)分辨率: 3.1nm,基于 150 線光柵,詳細(xì)可參見《型號(hào)表》
光學(xué)分辨率: 4.7nm,基于 150 線光柵和 10μm狹縫,詳細(xì)可參見《型號(hào)表》
探測(cè)器: Hamamatsu, G9203
制冷: 一級(jí)芯片內(nèi) TEC 制冷
積分時(shí)間: 1ms ~ 15s
信噪比: 15,000:1
動(dòng)態(tài)范圍: 15,000:1
||Hide

NIR2500 近紅外光譜儀
項(xiàng)目
探測(cè)范圍: 900 ~ 2500nm,具體視光柵而定
波長(zhǎng)分辨率: 6.3nm,基于 150 線光柵,詳細(xì)可參見《型號(hào)表》
光學(xué)分辨率: 小 8.8nm,基于 150 線光柵和 10μm 狹縫,詳細(xì)可參見《型號(hào)表》
探測(cè)器: Hamamatsu, G9208
制冷: 二級(jí)芯片內(nèi) TEC 制冷
積分時(shí)間: 1 ~ 200ms
信噪比: 7,500:1
動(dòng)態(tài)范圍: 7,500:1
★ 消除高階衍射: 后置濾光片,用以消除光譜中的鬼線
||Hide

近紅外光譜儀其他參數(shù)
項(xiàng)目
光學(xué)平臺(tái): 焦距 100.0mm,f 數(shù) 4.5,對(duì)稱非交叉 C-T 光路
A/D位數(shù): 16 bits
外部觸發(fā): 4 種外部觸發(fā)模式:Normal / Level / Edge / Synchronization

 

* 以企業(yè)網(wǎng)站主頁(yè)參數(shù)信息為準(zhǔn)。

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