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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>熱工藝設備/熱處理設備>退火爐> 8寸快速退火爐

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8寸快速退火爐

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量伙半導體設備(上海)有限公司成立于2018年,位于上海市浦東新區。公司專注于半導體芯片設備的研發、生產和銷售,為半導體芯片制造行業提供可靠的設備和高質量的服務、

公司在安徽合肥設有研發、生產基地,在北京、西安設有辦事處。

公司自主研發的快速退火爐RTP具有出色的技術水平,已在Fab廠、研究所、高校等芯片生產單位得到廣泛應用。


Larcomse Equipment (Shanghai) Co., Ltd. was established in 2018 and is located in Pudong New Area, Shanghai. The company focuses on the R & D, production and sales of semiconductor chip equipment, providing high-end equipment and high-quality services for the semiconductor chip manufacturing industry


The company has R & D and production bases in Hefei, Anhui Province, and offices in Beijing and Xi'an.


The rapid annealing furnace RTP independently developed by the company has the leading technical level in China and has been widely used in fab factories, research institutes, universities and other chip production units.


快速退火爐

設備主要規格(Features):

1.全自動操作模式;

2.Robot取放片;

3.適應于 6英寸-8英寸 Wafer

4..冷卻方式包括水冷和氮氣吹掃;

5.MFC控制,3-5路制程氣體;

6.SEMI認證。

 

設備主要工藝應用(Application):

快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN)

離子注入/接觸退火;

高溫退火;

高溫擴散。

金屬合金;

熱氧化處理;

 

設備主要應用領域(Field):

化合物半導體(砷化鎵、氮化物、碳化硅等);

多晶硅;

太陽能電池片;

MEMS

功率器件;

IC晶圓;

LED晶圓。



RTARapid Thermal Annealing 快速熱退火。

RTORapid Thermal Oxidation 快速熱氧化,主要用于生長薄絕緣層。

RTNRapid Thermal Nitridation 快速熱氮化。


相關分類

氧化擴散設備


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