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穆勒矩陣測量系統(tǒng)

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北京昊然偉業(yè)光電科技有限公司成立于 2010 年,專業(yè)代理歐美(德國、瑞士、美國、波蘭等)高精度的光學(xué)檢測設(shè)備,致力于為科研和工業(yè)客戶提供光學(xué)檢測解決方案及包括售前、售中及售后在內(nèi)的服務(wù)。主要包括:
光學(xué)檢測產(chǎn)品:應(yīng)力雙折射、折射率、弱吸收、反射率、散射等測量系統(tǒng)/剪切干涉儀/非接觸式測厚儀/測角儀/可調(diào)相位延遲波片等;
激光檢測產(chǎn)品:激光功率計、能量計及光束質(zhì)量分析儀等;
                         集成系統(tǒng)所需的激光器、步進位移平臺、偏振光轉(zhuǎn)換器等
                         顯微系統(tǒng)所需的XYZ電動載物臺、波片進片機、高速相機ICCD、像增強器300ps門控時間、FLIM、高精度脈沖延時器等。
                         值得一提的是,近年來公司科研團隊自主研發(fā)PCI弱吸收測量儀,CRD光腔衰蕩法高反測量儀,偏心曲率測量儀等產(chǎn)品,為今后的發(fā)展壯大奠定了堅實的基礎(chǔ)。

測角儀,應(yīng)力雙折射,折射率,薄膜弱吸收,反射率,GDD檢測設(shè)備,波片相位延遲,剪切

產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,交通
  在同一臺儀器中采用四個光彈性調(diào)制器(PEM),150XT Mueller偏振計可以在短時間內(nèi)同時測量十六個穆勒r矩陣元素和樣品的完整偏振特性。 Hinds 儀器公司產(chǎn)品系列的這一新增功能可應(yīng)用于學(xué)術(shù)和工業(yè)研究、光學(xué)元件特性、制造和質(zhì)量控制。 承包系統(tǒng)在各種光學(xué)、化學(xué)和生物化學(xué)樣品中繪制出線性延遲、圓形延遲(或旋光)、線性二次衰減和圓形二次衰減。
  靈敏度和重復(fù)性
  使用Hinds儀器公司的PEM技術(shù),該系統(tǒng)為一個完整的穆勒偏振計提供了高靈敏度。此外,PEM提供高速操作,以幾十千赫的速率調(diào)制。靈敏度和重復(fù)性可輕松提供亞納米水平的線性和圓形雙折射測量結(jié)果,以及線性和圓形二次衰減的亞百分比測定,這對于許多應(yīng)用很重要。
  精心設(shè)計,操作簡單,直觀
  一個大至6“x 6”(150mm x 150mm;更大尺寸可選)的樣品可以手動或自動繪制并以圖形方式顯示。 一旦將樣本放置在翻譯階段,直觀的軟件就可以指導(dǎo)操作員完成步驟測量過程。 用戶界面軟件可計算線性延遲值、圓形延遲值、線性衰減值和圓形衰減值,并以各種格式顯示它們。 該軟件還提供文件管理和校準功能。 在可選模式中,樣本可以相對測量光束傾斜,而不是在XY 平臺移動,使用自動旋轉(zhuǎn)器或旋轉(zhuǎn)器生成產(chǎn)所有十六個Mueller矩陣元素的角映射和樣本的所有偏振屬性。
  Mueller偏振計測量了通過正在研究的光學(xué)樣品的光學(xué)路徑集成的偏振特性。一束氦氖激光光束被偏振化,然后由前兩個脈沖編碼調(diào)制。調(diào)制光束通過樣品傳輸,然后通過另外兩個PEM的組合,一個分析器和一個光電探測器。電子信號是通過傅立葉分析捕獲的波形(鎖定選項可用于更低級別的信號檢測)來處理的。一種由紐約大學(xué)和Hinds儀器合作開發(fā)的軟件算法,將電子模塊中的信號電平轉(zhuǎn)換成16個Mueller矩陣元素和樣品的特性,當(dāng)在自動映射模式下工作時,x-y平移階段將樣本移動到下一個預(yù)定的測量位置。結(jié)果以用戶需求的格式即時顯示。 
  穆勒矩陣測量系統(tǒng)主要特點:
  在全Mueller偏振計中具有高靈敏度
  同時測量所有十六個Mueller矩陣元素
  同時測量完整的偏振特性
  準確重復(fù)性
  高速測量
  光學(xué)系統(tǒng)中無移動部件
  可變尺寸光學(xué)元件的自動映射
  光彈調(diào)制器技術(shù)
  簡單、便于用戶使用的操作  

  穆勒矩陣測量系統(tǒng)應(yīng)用:

  學(xué)術(shù)和工業(yè)研究
  質(zhì)量控制計量
  測量完整的偏振特性
  具有復(fù)雜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的光學(xué)元件
  激光晶體
  具有復(fù)雜圖層的液晶顯示器
  非晶態(tài)晶體
  各向異性晶體
  化學(xué)和生物各向異性光學(xué)材料
  由電場或磁場引起的各向異性





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