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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>離子濺射儀>KT-Z1650PVD 銅靶材鍍膜濺射儀

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KT-Z1650PVD 銅靶材鍍膜濺射儀

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鄭州科探儀器設備有限公司是集開發、制造、經營為一體的材料創新型企業,如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室 及*校,科探儀器已經成為老師 同學歡迎和信任的品牌之一

公司以科技創新為主,服務社會為宗旨,積極設計開發新型材料制備設備,奉獻于教育和科學,經過長期的研發和不斷地技術積累,擁有熱工,制造,控制相關技術10余項,為化學,物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯合,形成了有效的信息,技術交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!。

目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品,產品囊括實驗電爐、CVD供氣系統、等離子清洗機、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、高級工程師、博士參與公司產品的研究和開發。我們秉承公司的發展理念,依靠嚴謹的技術研發能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備 真空設備 儀器儀表 電子元器件 五金交電實驗室設備安裝

靶材材質 金 鉑 銅 銀 靶材尺寸 50mm
產地類別 國產 價格區間 1-5萬
濺射氣體 根據需求氣體 控制方式 觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸 φ160x160mm 樣品臺尺寸 φ50mm
應用領域 化工,電子

銅靶材Cu target 鄭科探小型磁控濺射靶材鍍膜銅膜料顆粒銅

以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產生微裂紋;但當硫元素含量高于18 ppm,會出現微裂紋;隨著兩種雜質元素(硫和鉛)含量的增加,靶材裂紋的數量和電弧放電的數量會增加.因此,應盡可能降低靶材中的雜質含量,以提高薄膜的均勻性。

 

銅靶材.jpeg
高純度銅靶材

 

銅靶材鍍膜濺射儀

 

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應用領域:

離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數;

 

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




 



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