半導體膜厚測試儀
- 公司名稱 先鋒科技(香港)股份有限公司
- 品牌 OTSUKA/日本大冢
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/10/16 10:47:21
- 訪問次數(shù) 2447
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測量模式 | 直流 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
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價格區(qū)間 | 100萬-200萬 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子,綜合 |
半導體膜厚測試儀-OPTM
R&D ! QC ! 植入設(shè)備! 都可簡單實現(xiàn)高精度測量!
測量目標膜的絕對反射率,實現(xiàn)高精度膜厚和光學常數(shù)測試! (分光干渉法)
半導體膜厚測試儀特 長 Features
·膜厚測量中必要的功能集中于頭部
·通過顯微分光高精度測量絕對反射率(多層膜厚、光學常數(shù))
·1點只需不到1秒的高速tact
·實現(xiàn)了顯微下廣測量波長范圍的光學系(紫外~近紅外)
·通過區(qū)域傳感器控制的安全構(gòu)造
·搭載可私人定制測量順序的強大功能
·即便是沒有經(jīng)驗的人也可輕松解析光學常數(shù)
·各種私人定制對應(yīng)(固定平臺,有嵌入式測試頭式樣)
測量項目 Measurement item
·絕對反射率測量
·膜厚解析
·光學常數(shù)解析(n:折射率、k:消光系數(shù))
構(gòu)成圖
式 樣Specifications
※ 上述式樣是帶有自動XY平臺。
※ release 時期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3預(yù)定2016年9月。
* 膜厚范圍是SiO2換算。