化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備>KDH-1000 2022款非自耗真空電弧爐熔煉爐
鍍膜設(shè)備,耐火保溫材料,智能化設(shè)備,真空設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,光學(xué)設(shè)備,機(jī)械設(shè)備,電氣設(shè)備,儀表儀器生產(chǎn)銷售。
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子,冶金,綜合 |
---|
2022款非自耗真空電弧爐熔煉爐設(shè)備用途 :
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
2022款非自耗真空電弧爐熔煉爐的優(yōu)點(diǎn):
1. 樣品可多樣性:樣品可以是粉末、絲狀、屑狀及鉆屑、粒狀、條狀、環(huán)狀、泥沙狀等;
2. 熔樣時(shí)間短:大部分金屬材料加熱重熔時(shí)間為一分鐘或更少;
3. 熔樣爐的高強(qiáng)度電弧重熔能起到均勻混合樣品的作用;
4. 陽(yáng)極有石墨電極和鎢電極兩種;鎢電極壽命長(zhǎng),價(jià)格貴,石墨電極價(jià)格便宜,會(huì)燒損;
5. 坩鍋為銅材,同時(shí)采用水冷,且有一定傾斜角度并可旋轉(zhuǎn),利于樣品快速冷卻和取出;
6. 采用惰性氣體保護(hù),一般用普氬,也可以結(jié)合采用抽真空的方式。
三、設(shè)備組成:
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。
四、酷斯特科技全新款母合金專用真空電弧爐熔煉爐主要技術(shù)參數(shù):
1、型號(hào):KDH-1000
2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置:飛越直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流:額定電流1000A
6、熔煉坩堝 有五個(gè)工位
7、三個(gè)熔煉合金工位 (其中兩個(gè)工位帶磁攪拌)
一個(gè)吸鑄工位
一個(gè)熔煉除氣工位
8、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 120-200克
9、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
10、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧