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平行板電容式PECVD

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  沈陽科晶立足國內市場實際情況,以提供Z為實用的產品為己任。產品的質量、精度在向國外企業看齊的基礎上,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業實驗室,配備了優秀的專業技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環境,而且還可得到專業人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

 

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切割機,金剛石線切割機,研磨拋光機,提拉涂膜機,旋轉涂膜機,真空鍍膜機,管式爐,箱式爐,電池實驗研究設備,清洗機

產地類別 國產 應用領域 化工,電子

平行板電容式PECVD是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。等離子體化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成等離子體,利用低溫等離子體作為能量源,通入適量的反應氣體,利用等離子體放電,使反應氣體激活并實現化學氣相沉積的技術。該系統為單室等離子增強化學氣相沉積(PECVD)工藝研發設備,用于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。1、系統采用單筒式結構,手動前開門
2、高真空環境下進行沉積薄膜
3、不銹鋼腔體
4、樣品臺可轉動

產品名稱 平行板電容式PECVD
安裝條件 1、環境溫度:10℃~35℃
2、相對濕度:不大于75%
3、供電電源:220V、單相、50±0.5 Hz
4、設備功率:小于4KW  
5、供水:水壓0.2MPa~0.4MPa,水溫15℃~25℃,
6、設備周圍環境整潔,空氣清潔,不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?;驓怏w存在。
主要參數 1、系統采用單室筒式結構,手動前開門;
2、真空室組件及配備零部件全部采用優質不銹鋼材料制造(304),氬弧焊接,表面采用噴玻璃丸+電化學拋光鈍化處理配有可視觀察窗口,并帶擋板,真空室尺寸為Φ300mm×300mm;
3、極限真空度:8.0x10-5 Pa
(經烘烤除氣后,采用600L/S分子泵抽氣,前級采用4L/S);
系統真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;
系統從大氣開始抽氣到8.0x10-4 Pa,40分鐘可達到; 停泵關機12小時后真空度:≤20 Pa;
4、采用樣品在下,噴淋頭在上的電容式耦合方式進氣;
5、樣品最高加熱溫度:500℃,溫控精度:±1°C,采用溫控表進行控溫;
6、噴淋頭尺寸:Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距15-50mm在線連續可調(可根據工藝調整),并帶有標尺指數顯示;
7.、沉積工作真空:13.3-133Pa(可根據工藝調整);
8、射頻電源:頻率 13.56MHz,最大功率300W全自動匹配;
9、氣體種類(用戶自備),標準配置為2路100sccm質量控制器,用戶可根據工藝更改氣路配置;
10、系統尾氣處理系統(用戶自備)。

 

 

 



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