鍍膜設(shè)備,耐火保溫材料,智能化設(shè)備,真空設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,光學(xué)設(shè)備,機(jī)械設(shè)備,電氣設(shè)備,儀表儀器生產(chǎn)銷售。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子,冶金,綜合 |
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一、帶磁攪拌真空電弧爐設(shè)備用途 :
1·用途廣泛:可用于光譜分析或合金研究的樣品制備:能夠快速獲得合適大小的均質(zhì)金屬塊,方便直讀光譜儀、X 射線熒光光譜儀的快速檢測(cè),以達(dá)到事半功倍的效果。
也可用做快速熔樣:大部分難熔合金樣品的熔融時(shí)間為 50 ~ 60 秒,這樣的速度能盡量減
2·少樣品揮發(fā):在高達(dá) 1980 攝氏度的熔化溫度下,樣品幾乎沒(méi)有燒損。例如,容易與氧元素結(jié)合的易燒損的硼元素在高溫合金的含量為 0.003%,經(jīng)過(guò)第三方測(cè)試結(jié)果表明,硼元素在用熔樣爐熔融時(shí)幾乎沒(méi)有損失。其他易燒損元素,如硅、錳、鈦、鋁、鎂、錸等都可以保護(hù)的很好。
3·帶電弧攪拌:強(qiáng)烈的電弧火花攪拌配合移動(dòng)操縱桿可獲得均質(zhì)效果,以消除樣品粒度和基體效應(yīng)產(chǎn)生的影響。使熔制出的樣品均勻性很好,保證了測(cè)試結(jié)果代表性和準(zhǔn)確性
4·快速水冷銅坩堝:銅坩堝四周循環(huán)水冷卻,樣品可輕易脫出,同時(shí)由于冷卻速度快,達(dá)到了快速急冷的效果,也就能滿足鑄鐵產(chǎn)品快速冷卻白口化的效果。同時(shí)無(wú)需脫模劑,且不會(huì)造成樣品與坩堝的交叉污染,可以直接熔化合金粉末樣品,避免了其它熔樣爐操作復(fù)雜以及鉑金坩堝被腐蝕的問(wèn)題
5·氬氣保護(hù)(可結(jié)合抽真空:在高純的氬氣環(huán)境保護(hù)下熔樣,可避免表面氧化。滿足苛刻的科研要求,也可以不抽真空或改充二氧化碳保護(hù)氣,以模擬現(xiàn)場(chǎng)焊接狀態(tài)。
二、帶磁攪拌真空電弧爐
2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置:飛越VRD-24直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流:額定電流500A
6、熔煉坩堝 有三個(gè)工位:一個(gè)熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌,一個(gè)吸鑄工位30-70g 一個(gè)異型長(zhǎng)條工位
7、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 50-70克
8、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
9、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧