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科研3D打印機

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摩方精密(BMF, Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技術及精密加工能力解決方案提供商。專注于精密器件免除模具一次成型能力的研發,提供制造復雜三維微納結構技術解決方案,同時,可結合不同材料及工藝,實現終端產品高效、低成本批量化生產及銷售。

 

在科研領域,摩方自主研發的3D打印系統已被美國Hughes Research Laboratories 、麻省理工、新加坡南洋理工、英國諾丁漢、德國德累斯頓工大、清華、北大、上海交大、浙江大學、南京大學、北航、西交大、中科大、華中科大、港中文、港城大、阿聯酋哈里發大學、丹麥科技大學、德國于利希研究中心等眾多全球頂級高校和科研機構使用。

 

在工業領域,作為專注于高精密增材制造領域的企業,摩方公司已和眾多全球500強企業開展業務合作,包括GE醫療、Merck、美國強生、日本電裝、安費諾、3M、泰科、華為、立訊、中石油等,產品廣泛應用于連接器、內窺鏡、醫療器械、消費電子、包裝和通訊等行業。

 

 

微納3D打印,高精密光固化3D打印機,類器官芯片,陶瓷貼片,

應用領域 醫療衛生,食品,生物產業,電子,制藥 光學精度 10μm
打印材料 光敏樹脂 打印層厚 10-40μm
最大打印尺寸 19.2mm(L)×10。8mm(W)×45mm(H) 光源 UV?LED(405nm)

一、科研3D打印機介紹

nanoArch P140是科研級3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。

微納制造 精密必現

nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻技術(PμSL:Projection Micro Stereolithography)


二、科研3D打印nanoArch P140 系統簡介

nanoArch P140是可以實現高精度微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。

<strong>科研3D打印機</strong>




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