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180 Laser MBE/PLD 激光分子束外延分析系統(tǒng)
- 公司名稱 北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 180 Laser MBE/PLD
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/5/7 14:37:16
- 訪問次數(shù) 675
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,能源,航天,綜合 |
產(chǎn)品簡介
激光 MBE 是普遍采用的術(shù)語，該法是一種納米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 與在線工藝監(jiān)測的反射高能電 子衍射（RHEED）的聯(lián)合應(yīng)用，用戶提供了類似于 MBE 的薄膜生長的單分子水平控制。 正確的設(shè)計是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因數(shù) RHEED 通常在高真空環(huán)境下（（<10-6 torr））使用。然而，因為在某些特殊情況下，PLD 采用較高的壓力，差動抽氣是必要 的，維持 RHEED 電子槍的工作壓力，同時保持 500 mTorr 的 PLD 工藝壓力。同時，設(shè)計完整的系統(tǒng)消除磁場對電子束 的影響是至關(guān)重要的。Neocera 激光 MBE 系統(tǒng)可以添加客戶定制系統(tǒng)，比如超高真空激光襯底加熱器，用于集成原位分 析系統(tǒng)（XPS/ARPERS 等）。樣品可以簡單地從激光 MBE/PLD 系統(tǒng)傳送到超高真空 XPS/ARPERS等）。樣品可以簡單地從激光 MBE/PLD 系統(tǒng)傳送到超高真空 XPS/ARPERS 系統(tǒng)。
產(chǎn)品特點
獨立的MAPLE PLD系統(tǒng)
有機和聚合物薄膜的沉積
在同一室的附加沉積源(可選): 脈沖電子沉積(PED)，射頻/直流濺射和直流離子源
Load-lockable襯底階段
與XPS分析系統(tǒng)集成，直接將晶片從PLD系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到分析系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù)
1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直徑(Pioneer 120 高級型/ Pioneer 180型號)
2.襯底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加熱器) ; 直徑2”(輻射加熱器)
3.襯底加熱:1000 ℃(激光加熱器)；850℃(輻射加熱器)
4. 目標(biāo)旋轉(zhuǎn)：直徑 6 x 1 "或3 x 2 "
5.工業(yè)氣體:氧氣和氮氣100 SCCM的mfc
6. 軟件:Windows 7/Labview 2013
7. RHEED電子槍與軟件:a.射柱電壓：30keV；b.運行壓力:500 mTorr/氧；c. RHEED屏幕/快門。d. CCD攝像機和數(shù)據(jù)采集軟件
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