nanoArch S140 Pro微納微納3d打印供應由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業少數能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢，被認為是目前具有前景的微尺度加工技術之一。

nanoArch S140 Pro微納微納3d打印供應基本參數：

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學精度：10μm

打印層厚：10-40μm

打印尺寸：

①模式一：19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)（單投影模式）

②模式二：94㎜(L)×52㎜(W)×45㎜(H)（拼接模式）

③模式三：94㎜(L)×52㎜(W)×45㎜(H)（重復陣列模式）

文件格式：STL

設備功率：3000W

系統外形尺寸：1000㎜(L)×700㎜(W)×1600㎜(H)

主機外形尺寸：600㎜(L)×580㎜(W)×750㎜(H)

重量：300kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

應用領域：

可廣泛應用于醫療器械、內窺鏡、連接器、消費電子、包裝和通訊等行業