BMF nanoArch® P130 系統(tǒng)
- 公司名稱 八帆儀器設(shè)備(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2021/3/1 21:30:57
- 訪問(wèn)次數(shù) 443
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原子力顯微鏡,原子力拉曼,有機(jī)合成質(zhì)譜儀,制備色譜,納米紅外光譜儀,掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡,電鏡下原子力,微米級(jí)3D打印機(jī),
應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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BMF nanoArch® P130 系統(tǒng)是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級(jí)3D打印系統(tǒng)
BMF nanoArch® P130 系統(tǒng)性能:
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學(xué)精度 2μm |
XY打印精度 2μm~10μm | 打印層厚 5μm~20μm | 打印樣品尺寸 3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)① |
打印文件格式 STL | 系統(tǒng)外形尺寸 1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm3 | 重量 650kg |
電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設(shè)備功率 2000W |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。
個(gè)性化
高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。
系統(tǒng)特點(diǎn):
(XY打印精度高達(dá)2μm)
(5μm~20μm的打印層厚效果對(duì)比)