鋁塑膜處理等離子清洗設備：誠峰智造

 噴射型AP等離子處理系統CRF-APO-R＆D-XXXD

名稱（Name）

噴射型AP等離子處理系統（Jet type plasma processing system）

等離子電源型號（Plasma power   model）

CRF-APO-R＆D-XXXD

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

600W/25KHz（Option）

功率因素（Power factor）

0.8

處理高度（Processing   height）

5-15mm

處理寬幅（Processing width）

直噴式（Direct jet type）：1-6mm（Option）

旋噴式（Potary jet type）：20mm~80mm

內部控制模式（Internal control mode）

數字控制（Digital control）

外部控制模式（External conteol mode）

啟停I/O（ON/OFF I/O）

工作氣體（Gas）

Compressed Air （0.4mpa）/N2（0.2mpa）

電源重量（Power weight）

8kg

產品特點： 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產品和處理環境；

設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節省客戶使用空間；

可In-Line式安裝于客戶設備產線中，減少客戶投入成本；

使用壽命長，保養維修成本低，便于客戶成本控制。

應用范圍：主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；工業的航空航天電連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。

鋁塑膜處理等離子清洗設備

 等離子體清潔器又稱等離子清洗器，或等離子表面處理器，是一種全新的高科技技術，它利用等離子體來達到常規清洗無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也稱為物質的第四態，不屬于通常所說的固體氣體三態。把足夠的能量加到氣體上，使其離化便變成等離子狀態。等離子中的“活性”成分包括：離子、電子、原子、活化基團、激發態(亞穩態)和光子等。等離子清洗機是利用這些活性成分的特性對樣品進行表面處理，從而達到清洗、涂布等目的。
等離子體就像固體、液體或氣體一樣，是一種物質狀態，也稱為第四態。把足夠的能量加到氣體上，使其離化便變成等離子狀態。等離子體中的“活性”成分包括：離子、電子、活基、激發態(亞穩態)和光子等。等離子表面處理儀是利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理，從而達到凈化、改性、光刻膠灰化等目的。
按照等離子清洗機的清洗方法的不同標準，可分為：真空狀態等離子清洗、常壓狀態等離子清洗、低溫清洗清洗；也可根據工作氣體的不同，分為：空氣等離子清洗機、氮氣等離子清洗機等。
實際上低溫等離子設備也算是干洗法中的一種，與濕洗法相比它具有工藝簡單、受控、產品能達到一次性洗凈、無殘留物等優點。
而且濕洗法其大的缺點可能是一次性洗不干凈，還會有殘渣，用等離子設備干洗它的反應需要氣體，而我們使用的氣體大部分是無毒的，而且濕洗法很多是使用大量的溶劑，其中也含有許多對人體有害的化學成分，對環境也會有影響。
利用等離子清洗機進行等離子體處理時，包含了兩個清洗過程，一個是化學清洗，另一個是物理清洗。
其中以化學反應為主的等離子清洗機，具有很快的清洗速度，很好的性能和選擇性，在去除有機物，氧化物，以及做表面活化等方面有很好的效果。