實驗室超聲波清洗設備最早出現于20世紀30年代早期，當時，位于美國新澤西州的美國無線電公司的一個實驗室中的技術人員嘗試用自制的簡陋超聲波清洗系統清洗某些物體，但試驗未獲成功。在此基礎上，超聲波清洗技術在20世紀50年代有了很大的發展，當時使用的超聲波工作頻率在20～ 40 kHz之間。

　　該范圍內的超聲波被應用在數千種不同的工作場合下，其中許多是別的清洗手段不能很好發揮作用的場合。超聲波可以對工件施加非常巨大的能量，尤其適用于清除牢固地附著在基底上的污垢。然而在某些情況下，超聲波強大的能量也會損傷粘有污垢而性質脆弱的基底材料。

　　在過去的十幾年中，超聲波領域中出現了一些技術革新，提高了清除敏感基底上的污物的安全系數。在此期間，超聲波技術，特別是中高頻超聲波清洗技術有了新的發展，并成為行業的亮點。

　　近年來，人們發現用兆聲波(根據超聲波的頻率不同，把40 kHz及其以下的稱為常規或低頻超聲波，把1 000 kHz以上的稱為高頻超聲波，又稱兆頻超聲波，簡稱兆聲波)清洗可以去除掉半導體材料表面上的超細污垢微粒，并且不會損傷基底材料的表面。目前這項技術已經得到了很快的普及。

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　　溫度控制：數字顯示設定(常溫-80度)

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