日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111

設(shè)備是為MEMS器件和各種半導(dǎo)體研究開(kāi)發(fā)的噴涂機(jī)。
 1，支持MEMS器件 
2，在不平坦的表面上均勻涂膜厚度 
3，通孔和溝槽填充應(yīng)用 
4，配有加熱器內(nèi)置的樣品架。樣品溫度gao可控制在100°C。 
5，伺服電機(jī)使用我們的“ Si-servo”，它具有低振動(dòng)，低熱量產(chǎn)生和高精度的特點(diǎn)。
6，特殊規(guī)格也可提供。

特征

1.可以進(jìn)行高精度，均勻的膜厚涂布?

使用可以制成微粒的噴嘴，即使在常規(guī)旋涂器難以涂覆的區(qū)域，例如基材的傾斜表面，梯形和直角頂點(diǎn)，也可以形成均勻的膜。
另外，可以將內(nèi)嵌的抗蝕劑施加到微調(diào)器難以實(shí)現(xiàn)的空腔，通孔和溝槽結(jié)構(gòu)上。
適用的膜厚從旋轉(zhuǎn)器級(jí)薄膜到超厚膜。膜厚度可以為1μm至600μm。（取決于化學(xué)性質(zhì)。）

2.可以使用多種化學(xué)溶液

它支持AZ電子材料的AZ-P4000系列，Kayak Microchem Co.的SU8，KMPR系列等，
以及苯并環(huán)丁烯樹(shù)脂（BCB）和各種聚合物。
也可以使用高粘度化學(xué)品。（取決于化學(xué)性質(zhì)。）

3.減少化學(xué)藥品的浪費(fèi)

由于它被涂到小的必要表面上，因此不會(huì)浪費(fèi)化學(xué)液體，例如旋涂。
另外，由于注射器被放置在噴霧單元附近，因此藥液管線中的廢物少。

日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111

　技術(shù)指標(biāo)　基本規(guī)格

　效用

　外形尺寸和重量