Fiji G2 Plasma ALD 維易科 全自動原子層沉積系統（ALD）
- 公司名稱 香港電子器材有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Fiji G2 Plasma ALD 維易科
- 產地 美國
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2020/9/21 11:46:34
- 訪問次數 772
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美國普林斯頓CCD、光譜儀，加拿大Sciencetech太陽能模擬器、BNC延遲脈沖器、Gentec光電探測器、海洋光學光譜產品、半導體前道產品、Crystalaser激光器、EOS紅外探測器、半導體后道產品
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 醫療衛生,生物產業,能源,電子,航天 |
全自動原子層沉積系統(ALD)
Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經有15年以上的ALD研發生產經驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學，05年搬到Boston并生產出Thermal ALD - Savannah, 之后生產出Plasam ALD - Fuji、批量生產ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設備已有15年多的經驗，已安裝五百多臺ALD設備。
方式: Plasma & Thermal ALD
優勢: 標準自動加載鎖定集成、加熱、薄箔ALD trap
反應腔體大小: 可達200 mm
設備尺寸: 1845 x 715 x 1920 mm
操作模式: 連續模式(傳統Thermal ALD) 曝光模式(超高深寬比) 等離子體模式(等離子體加強ALD)
功率: 220-240 VAC, 4200 W per reactor (不包含泵)
ZG溫度: 標準200mm襯底加熱至500°C / 可選100mm襯底加熱至800°C
沉積均一性: 1σ均一性 / Thermal Al2O3 -1.5%, Plasma Al2O3 -1.5%循環時間: <2s per cycle with Al2O3 at 200°C
兼容: 標準四端口，可增加至六端口。每一個源瓶均可放固態/液態/氣態前驅體，可獨立加熱至200°C
閥門: 工業標準ALD閥門(小響應10ms)
前驅體源瓶: 50cc(多填充25ml)不銹鋼氣瓶
原位分析選項: H2S兼容配件, 原位QCM, 原位橢便儀, RGA端口, 光發射光譜儀, 樣品高度高達57mm的晶圓
臭氧發生器, LVPD, 集成手套箱, 襯底偏壓
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