全自動原子層沉積系統(ALD)

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經有15年以上的ALD研發生產經驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學，05年搬到Boston并生產出Thermal ALD - Savannah, 之后生產出Plasam ALD - Fuji、批量生產ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設備已有15年多的經驗，已安裝五百多臺ALD設備。 

方式: Thermal batch ALD

優勢: 大批量熱ALD鍍膜，可靠成熟，設計靈活，易于使用，并具有許多操作界面，許多內置安全功能

薄膜: 高達370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 對象自定義支架

設備尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm

功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)

ZG溫度: 可達285°C

沉積均一性: Al2O3 晶片<1.5% / Al2O3批量<1%

前驅體源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml

載氣/排氣: N2 or Ar MFC flow control

原位分析選項: 臭氧發生器, LVPD,集成手套箱, 半自動負載

自動負載, SECS/GEM 界面