Helios NanoLab 的材料科學應用

在材料科學領域，研究人員面臨的挑戰是持續改善目前制造的材料和設備的質量。為了實現技術進步，在納米量級了解結構和成分細節至關重要。Helios NanoLab 設計用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察，讓研究人員能夠觀測樣本微小的細節。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制質量的樣本。此外，如果研究工作包括開發 MEMS 或 NEMS 器件，也可配備 Helios NanoLab 打造全功能原型。

電子工業應用

Helios NanoLab 是一款極其靈活的平臺，既能以*的效率制備 TEM 樣本，又能開展高性能低電壓成像以分析高級邏輯和存儲器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個配置，效率*，并且是面向實驗室和近生產環境的低每樣本成本半導體分析工作流的關鍵組成部分。

Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡 的自然資源應用

地質學家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術對鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術*特色，博采 FIB（聚焦離子束）銑削和 SEM（掃描電子顯微鏡）分析之長。借助自動化序列樣本銑削和成像功能，客戶可以創建二維序列圖像，進而開展三維容積重建。根據這些數據，客戶可以在微米至納米量級別觀測和量化孔隙網絡等紋理。

Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡生命科學應用

要想在三維背景下了解生物事件，就必須采用的成像解決方案，而且這些成像解決方案應能以*的分辨率呈現極小的細節，從而揭示出復雜網絡的超微結構和空間結構。Helios NanoLab 具有的 SEM 性能和可靠、FIB 切片能力，還配備了高精度壓電工作臺，堪稱小型 DualBeam 平臺的之選。出色的成像能力，輔以透鏡內和柱內檢測器提供的高對比度檢測技術，能夠實現真正的對比度。