Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000
- 公司名稱 柜谷科技發(fā)展(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2020/8/19 14:31:17
- 訪問(wèn)次數(shù) 745
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),文體 |
Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000(Hitachi Ion Sputter )采用了電磁管電極,能夠大限度地減輕對(duì)樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
z大樣品直徑:60 mm
z大樣品高度:20 mm
Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000?特點(diǎn):
采用LCD觸摸屏,可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件
規(guī)格:
項(xiàng)目 | 說(shuō)明 | |
放電 | 類型 | 磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng)) |
電極組成 | 反向平行盤(嵌入磁鐵) | |
電壓 | 大0.4Kv DC(直流可變) | |
電流 | 大40mA DC | |
噴鍍速率(大)[條件] 壓力:7Pa 放電電流:40mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20mm | Pt靶(選配件) | 15nm/min |
Pt-Pd靶(選配件) | 20nm/min | |
Au靶(選配件) | 35nm/min | |
Au-Pd靶(選配件) | 25nm/min | |
樣品尺寸 | 大直徑 | Ф60mm |
大高度 | 20mm | |
機(jī)械泵 | 135/162 L/min(50/60Hz) | |
靶材﹡² | Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4) | |
電源要求 | 單相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線纜(3m) | |
尺寸 | 寬度 | 450mm |
長(zhǎng)度 | 391mm | |
高度 | 390mm | |
重量 | 主機(jī):約25Kg 機(jī)械泵:約28kg | |
﹡¹:噴鍍速率僅供參考 ﹡²:主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀) |
注:該儀器未取得中華人民共和國(guó)醫(yī)療器械注冊(cè)證,不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途