共聚多面疊加技術三合一于一身干涉儀譜反射法是薄膜測量的方法之一，因為它準確、無損、迅速且無需制備樣品。測量時，白光照射到樣品表面，并將在膜層中的不同界面反射，并發生干涉和疊加效應。結果，反射光強度將顯示出波長變化，這種變化取決于薄膜結構不同層面的厚度和折射率。軟件將測得的真實光譜同模擬光譜進行比較擬合，并不斷優化厚度值，直到實現佳匹配。

共聚多面疊加技術三合一于一身干涉儀也可用作高分辨率的薄膜測量系統，它適用于單層箔，膜或基板上的單層薄膜，而且還可以處理更復雜結構(高可至基板上10層薄膜)。可在一秒內測量從10nm到20μm的透明薄膜，厚度分辨率0.1 nm，橫向分辨率達5μm。

應用舉例

表面形貌觀測

太陽能硅片的表面，不論是多晶還是單晶，在微觀下表面的起伏都相當劇烈。傳統的分析設備，很難講形貌正確地顯示和測量。PLu設備因為具有可以量測大斜率的優勢，所以可將表面呈現得相當完整。