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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>勻膠機>L20001 英國Ossila-Spin Coater

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L20001 英國Ossila-Spin Coater

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企業歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。

◆ 2008 年, 自主研發生產石墨電熱板以來, 先后研發生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備, 從此走上研發生產專業化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術,自主研發生產科研型等離子清洗機系列產品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設備研發、制造業務移至中國。

◆ 2015 年,自主研發生產專為處理粉體樣品而設計轉瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發生產紫外臭氧清洗機系列產品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發制造業務全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發成功。

◆ 2021 年,自主研發生產中試、生產型等離子清洗系列產品,完善了等離子產品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發成功。


公司專注材料表面處理技術:

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業愿景:

致力于為全球用戶提供專業的表面處理整體解決方案。

企業使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業伙伴在內的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發展,共同成就夢想!


半導體領域儀器設備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產地類別 進口 價格區間 5萬-10萬
應用領域 醫療衛生,環保,食品,生物產業,農業

英國Ossila-Spin Coater

 

Spin Coater技術性能

  • 可在手套箱和通風廚內使用,基座面積僅為22.5x17cm。
  • 無需真空泵、充氮氣,節省保養維護費用。
  • 創新設計非真空卡盤式吸盤,基材只需放置在卡盤式旋涂托盤適當位置,無需抽真空,就能達到較好的旋涂效果。
  • 耐酸堿防腐蝕FEP覆膜操作界面,堅固的不銹鋼外殼,鋼化的玻璃蓋和耐酸堿防腐蝕的襯墊和聚丙烯材質旋涂托盤,使得在各種苛刻條件下仍能保證儀器正常運行。
  • 采用液晶顯示+按鍵操作控制界面。智能程序化控制,10個用戶自定義協議,每個協議下可設置10個程序,每個程序多50個步驟。
  • 內置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。
  • 電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證運行安全。
  • 轉速穩定性<2%。
  • 轉速120-6000rpm。
  • 定時器1-1000秒。
  • 電源DC24V、2A, 使用100-240V 50/60Hz電源適配器。
  • 尺寸220x170x132mm。
  Spin Coater用于晶片基底材料的表面光刻膠涂覆。勻膠機由樣品臺、滴膠裝置和空心電動機組成,其工作原理是,通過在樣品臺上產生負壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺上,光刻膠液滴注在基底材料的表面,通過準確控制電動機的旋轉速度,以此來改變離心力的大小,同時通過控制膠液的流量來達到制備薄膜所需的厚度。

 

Spin Coater

 

  勻膠機在旋涂過程中會出現邊緣效應,這是由于在旋涂的過程中溶劑的揮發導致表面和邊界處光刻膠的濃度和黏度都增大,從而引起邊緣位置較中心位置要厚一些,因此基片邊緣需要經過去邊處理。去邊處理包括基片正面和背面的化學去邊處理,以及基片正面的光學去邊處理。
  Spin Coater動態滴膠是指基片在旋轉的過程中將光刻膠滴注到基片的中心位置,通常旋轉速度不宜過快( 500/min),動態滴膠可以在保證快速地在基片表面將光刻膠鋪開的前提下,減少針孔的產生,也可減少光刻膠的使用量。

  • 左:普通旋涂機上有真空密封環形印跡     右:Ossila非真空式旋涂效果


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