HF450/600 熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備
- 公司名稱(chēng) 北京泰科諾科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) HF450/600
- 產(chǎn)地 北京昌平
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2019/8/8 9:50:30
- 訪問(wèn)次數(shù) 275
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,磁控鍍膜設(shè)備,電子束鍍膜設(shè)備,熱絲CVD設(shè)備,高真空退火爐,裝飾鍍膜設(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,冶金 |
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1、產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)及特點(diǎn):熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備采用熱絲化學(xué)氣相沉積技術(shù),已應(yīng)用于國(guó)內(nèi)多家用熱絲法生產(chǎn)金剛石的生產(chǎn)線上。該設(shè)備已生產(chǎn)出大尺寸片狀多晶金剛石厚膜,并獲得了非常可觀的經(jīng)濟(jì)效益。該系列設(shè)備適合于工業(yè)化生產(chǎn)也非常適合于科研、教學(xué)和產(chǎn)品中試之用。
2、主要用途:熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備用于生長(zhǎng)毫米級(jí)金剛石厚膜、金剛石薄膜、類(lèi)金剛石膜、氮化硅和氧化硅膜等。在切削*、鉆頭、絲錐等表面沉積金剛石薄膜。
3、技術(shù)參數(shù):
型號(hào) | HF450/HF600 |
真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷 |
真空腔室尺寸 | Φ450×H500mm/Φ600×H500mm |
基片臺(tái)尺寸 | Φ100mm/Φ200mm |
襯底溫度 | 600~1100℃ |
電源 | DC |
控制方式 | PC+PLC+觸摸屏控制 |
占地面積 | L1200×W1060×H1900mm/L1620×W1060×H1900mm |
總功率 | ≥20KW≥43KW |