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JCP200 單靶磁控濺射鍍膜機

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  北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來,一直專注于真空薄膜新材料沉積設備、真空技術應用設備及其工藝。是一家集研發、設計、制造、銷售和服務于一體的*,在行業內獨樹一幟。

  目前形成:一總部(北京昌平)二基地(懷來、任丘)的格局。

  公司擁有一支由多位教授、博士等*的技術研發、顧問團隊,具有較強的自主研發能力,確保了真空設備產品的高水平;同時建有研發鍍膜工藝、服務客戶的開發實驗室,始終保持技術優勢。

  現有員工80人,其中博士以上學歷2名,碩士以上學歷4名,大專以上學歷45人。

  公司主要研發設計生產磁控濺射鍍膜機、蒸發鍍膜機多功能復合鍍膜機粉體鍍膜設備高真空應用爐CVD金剛石設備大型應用定制設備以及與之配套的工藝技術廣泛應用于各大高等院校科研院所及企業進行薄膜新材料的科研和批量制備。真空產品、技術及其服務已經覆蓋全國的28個省市有超過1600臺設備在運行而且遠銷澳大利亞美國土耳其馬來西亞等國深受用戶的好評

蒸發鍍膜設備,磁控鍍膜設備,電子束鍍膜設備,熱絲CVD設備,高真空退火爐,裝飾鍍膜設備

產地類別 國產 價格區間 10萬-30萬
應用領域 電子,冶金,航天,汽車,電氣

產品特點/用途

? 磁控濺射鍍膜設備可濺射/蒸發兩用;占地面積小,價格便宜,性能穩定,使用維護成本低;

? 磁控濺射鍍膜設備可用于制備單層及多層金屬膜、介質膜、半導體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質膜、耐腐蝕膜等;

? 鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等;

? 單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

二、技術參數

型號JCP200
真空腔室結構立式上開蓋結構,下置抽氣系統,手動氣彈簧提開式
真空腔室尺寸Φ220×H300mm
加熱溫度室溫~500℃
濺射方式向上濺射
旋轉基片臺Φ100mm
膜厚不均勻性Φ50mm范圍內≤±5.0%
濺射靶/蒸發電極Φ2英寸磁控靶1支,兼容DC/RF濺射
工藝氣體1-2路氣體流量控制
控制方式PLC觸摸屏控制
占地面積(主機)L600×W800×H1700mm
總功率≥6KW
 
型號

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