小型臺式無掩膜光刻系統是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

    傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板 的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

    Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

Focus Lock自動對焦功能 

Focus lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，并通過Z向調整和補償，以保證曝光分辨率。

光學輪廓儀 

Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

標記物自動識別

點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

別直寫前預檢查

軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫準確。

簡單的直寫軟件

MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。

Clewin 掩模圖形設計軟件 

•可以讀取多種圖形設計文件（DXF, CIF, GDSII, 等）

•可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

•書寫范圍只由基片尺寸決定

直寫分辨率1μm

直寫分辨率0.6μm

 微電極制備

       光刻膠上的圖形                                 Au電極（SEM）                                   Au電極（SEM） 

微結構制備

微流通道制備