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Leaflet_ispay-300_cn 瑞士 ispay-300 3D微觀結(jié)構(gòu)的均勻噴涂

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藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機等儀器設(shè)備。引進日本,德國,韓國*技術(shù),設(shè)備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認可。

  同時我們專注進口科學(xué)儀器設(shè)備及材料,主要代理有國 Heidelberg 海德堡光刻機,美國 OAI 光刻機,德國 Raith 電子束光刻機,英國 Durtham 無掩膜光刻機,美國 Trion 刻蝕機.沉積機,德國 Sentech 刻蝕機.沉積機,德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀,日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機,美國 Nano-master 晶圓清洗機,美國 Arradiance 原子層沉積機,德國 WL 微波離子沉積機德國 Iplas 微波離子沉積機美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng),德國 Diener 等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

光刻機,鍍膜沉積機,刻蝕機,UV清洗機,實驗檢測儀器,UV燈

產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子

瑞士Sawatec Leaflet_ispay-300_cn 3D微觀結(jié)構(gòu)的均勻噴涂

針對具備高度結(jié)構(gòu)化晶圓形貌、深度 MEMS 結(jié)構(gòu)或不平整表面特征的基SAWATEC   公司 iSPRAY 能夠確保盡可能均勻的噴涂效果。它是一款精密的噴膠機,適用于手動噴涂或噴霧顯影工藝,主要被應(yīng)用于研究與開發(fā)實驗室,尤其 MEMS 加工的試產(chǎn)和小量產(chǎn)場合。

經(jīng)過工藝優(yōu)化的噴嘴能夠結(jié)合低粘度的、特別適用于噴涂作業(yè)的光刻膠(例如 Shipley1813AZ 4999AZ 9260SU8  等)生成精細的小液滴。在一個封閉式工藝室中噴嘴經(jīng)由“弓”字型行進路徑進行噴涂,由此可以確保整個基板表面上均勻的噴涂效果以及高度可再現(xiàn)性。該設(shè)備可用于圓形或正方形基板,多可同時噴涂 4  個晶基
 


 

功能(基本配置)
。可編程,多 50 個程序(各包含 24 個程序段)

。適用于重復(fù)工藝的快速啟動功能

。觸摸屏面板控制,方便用戶程序配置

。工藝參數(shù):噴嘴行進路徑,噴灑臂速度,噴灑時間,錐形束形狀電氣驅(qū)動的噴灑臂,其在 X 或 Y 軸方向上的速度可選

。可調(diào)整的噴嘴,具有恒定的噴灑壓力和自動的清潔功能

。手動裝卸基板

。工藝結(jié)束時的聲音信號



 

性能數(shù)據(jù)

。噴灑量:(50 cl) 容量的緩沖裝置,結(jié)合具有液位檢查功能的給膠泵

。噴灑介質(zhì)的粘度:0.3 25 cSt (µPas)

。噴嘴:液滴尺寸小于 7 微米,典型:3微米

。噴灑臂的速度和定位精度:大 0.4 m/s;±0.1mm

。每個分段的噴灑時間:長為9999 秒,調(diào)節(jié)步幅為 0.1

。噴灑循環(huán)的數(shù)目:多 20 個曲回循環(huán)環(huán)境溫度:+4 +60°C

 

附加功能(可選項)

。加熱板高溫度為 150°C,可用加熱面為 Ø300mm

。旋轉(zhuǎn)卡盤大轉(zhuǎn)速為6,000rpm +/-1rpm 1)

。可加熱的旋轉(zhuǎn)卡盤,大轉(zhuǎn)速為 1,500 rpm, 高溫度為 150°C

。噴嘴用 Z 升降軸


 

附加裝備

X Y 方向上標準的噴灑方式還可與一個轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)卡盤(帶有或沒有加熱裝置)相結(jié)合,進而改善特定形貌上噴涂的分布情況以及提高噴涂全面性。

此外,還可以在 iSPRAY-300 上裝配一個加熱板。這樣一來,即使是高粘度的光刻膠也能對少量覆蓋的孔洞進行有效成形, 以及確保邊緣涂布。


 

設(shè)計和尺寸

。電解拋光不銹鋼制成的可移動機身

。不銹鋼制工藝腔體

。可觀察工藝過程的玻璃前門

。用于噴嘴定位的精密 AC 伺服電機

。尺寸:850 x 750 x 2333mm(長 x x 高) 重量:約220kg

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