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Prexision-MMS 瑞典Mycronic 掩膜計(jì)量系統(tǒng)Prexision-MMS

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本,德國(guó),韓國(guó)*技術(shù),設(shè)備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

  同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料,主要代理有國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī),美國(guó) OAI 光刻機(jī),德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī),英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī),美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀,日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈,美國(guó)Jelight UV清洗機(jī),美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī),美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī),德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng),德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

光刻機(jī),鍍膜沉積機(jī),刻蝕機(jī),UV清洗機(jī),實(shí)驗(yàn)檢測(cè)儀器,UV燈

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子

 


 

掩膜計(jì)量系統(tǒng)

證明您的質(zhì)量

為了說(shuō)明產(chǎn)品是符合規(guī)范的,您必須證明激光掩膜上的圖形能夠在制造顯示屏?xí)r恰當(dāng)?shù)貙?duì)齊。為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn),您需要比光刻機(jī)精度更高的測(cè)量設(shè)備。
 

 

主要優(yōu)勢(shì)

*更佳的配準(zhǔn) 30%

*更好地將掩膜套合到掩膜上  20%

*更短的周轉(zhuǎn)時(shí)間30%

· 創(chuàng)新性Prexision平臺(tái)具備優(yōu)異的精準(zhǔn)度與可重復(fù)性

· 用我們的技術(shù)改善配準(zhǔn)測(cè)量。

· 因?yàn)?次測(cè)量的結(jié)果精確無(wú)誤,這大大給您節(jié)省了周轉(zhuǎn)時(shí)間。

· 充分發(fā)揮我們的Prexision光刻機(jī)的潛力。


基于較精確的Prexision平臺(tái)打造出的Prexision-MMS將對(duì)大面積的配準(zhǔn)測(cè)量帶到了全新的高度。現(xiàn)在,您可以證明您的光掩膜質(zhì)量究竟有多好了!

為充分利用其性能,您的測(cè)量系統(tǒng)性能對(duì)于精密調(diào)校光刻機(jī)也是極其重要的,這樣您的光掩膜才能以高的質(zhì)量描繪出來(lái)。

 Prexision-MMS 提供兩個(gè)型號(hào)。G8 型高可處理用于 8 代顯示器玻璃尺寸的掩模尺寸。對(duì)于 G10 型,高可處理 11 代顯示器尺寸。

 

技術(shù)指標(biāo) 

 

Prexision-MMS

掩膜對(duì)掩膜套合3σ[nm]

40

配準(zhǔn)3σ[nm]

65

關(guān)鍵尺寸可重復(fù)性3σ[nm]

50

大尺寸

G8

 

 
 


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