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電子束光刻機光刻機Raith Voyager新一代電子束光刻機
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藍星宇科技專業研發設計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機等儀器設備。引進日本,德國,韓國*技術,設備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業等客戶*認可。
同時我們專注進口科學儀器設備及材料,主要代理有:德國 Heidelberg 海德堡光刻機,美國 OAI 光刻機,德國 Raith 電子束光刻機,英國 Durtham 無掩膜光刻機,美國 Trion 刻蝕機.沉積機,德國 Sentech 刻蝕機.沉積機,德國 Optosol 吸收率發射率檢測儀,日本 SEN UV清洗機.UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機,美國 Nano-master 晶圓清洗機,美國 Arradiance 原子層沉積機,德國 WL 微波離子沉積機,德國 Iplas 微波離子沉積機,美國量子科學 Quantum 綜合物性測量系統,德國 Diener 等離子清洗機等*技術產品;并可依據客戶需求,研發定制相關儀器及材料。
光刻機,鍍膜沉積機,刻蝕機,UV清洗機,實驗檢測儀器,UV燈
Voyager 新一代電子束光刻系統
對于工業界和學術界所有關注速度和高分辨的電子束曝光應用,我們*您選擇VOYAGERTM這款專業電子束光刻系統。Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性價比、新開發的、創新的eWRITE體系結構。
系統的硬件和軟件被*設計為自動曝光操作,*的高性能圖形發生器和電子光學系統優化設計并協同*。
系統可實現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩定性是非常關鍵的指標,可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環境屏蔽罩,即使在稍差的實驗室環境下,仍然能確保系統具有非常好的熱穩定性,提高系統對外界環境的容忍度。
00001. 從初設計到樣品制備完成,實現高速樣品加工,提高產量
00002. 智能設計:設備占地面積小,且集成環境屏蔽罩
00003. 創新的、未來安全型系統架構
00004. 專業的電子束曝光系統,可實現每小時1cm2的高速曝光,高性價比
Raith新推出的eWrite技術結合了專業電子束光刻的光學系統和創新的圖形發生器設計,該技術適用于研發及批量生產的所有工作。
· HSQ膠上制作亞7nm線條
· SU8膠上制作 1x1 cm² 菲涅爾透鏡,曝光時間為53分鐘,圖為菲涅爾透鏡中心區域
· PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結構
· ZEP520膠上制作 1x1 cm²光柵結構,曝光時間小于2小時
· 高速度模式(40nA束電流下曝光160um大結構)和高分辨模式(0.4nA束電流下曝光10nm細小結構)自動切換
· ZEP520膠上制作光子晶體波導結構
主要應用:
· 高速直寫
· 衍射光學元件
· 防偽元件
· 批量加工化合物半導體器件
樣品臺:
· 6“ 移動范圍
· Z方向移動范圍大
電子槍技術:
· eWrite
· 電子
· 50 kV
*直寫模式:
· traxx 長線條無寫場拼接曝光模式
· periodixx周期結構無寫場拼接曝光模式
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