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EBPG5150 德國Raith EBPG5150 電子束光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準

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藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機等儀器設備。引進日本,德國,韓國*技術,設備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認可。

  同時我們專注進口科學儀器設備及材料,主要代理有國 Heidelberg 海德堡光刻機,美國 OAI 光刻機,德國 Raith 電子束光刻機,英國 Durtham 無掩膜光刻機,美國 Trion 刻蝕機.沉積機,德國 Sentech 刻蝕機.沉積機,德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀,日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機,美國 Nano-master 晶圓清洗機,美國 Arradiance 原子層沉積機,德國 WL 微波離子沉積機德國 Iplas 微波離子沉積機美國量子科學 Quantum 綜合物性測量系統(tǒng),德國 Diener 等離子清洗機等*技術產品并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關儀器及材料。

光刻機,鍍膜沉積機,刻蝕機,UV清洗機,實驗檢測儀器,UV燈

產地類別 進口 應用領域 電子

EBPG5150 電子束光刻機
 

 

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺,采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計,對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。 
 

00001. 高束流密度,熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換

00002. 155mm的平臺

00003. 小曝光特征尺寸小于8nm

00004. 高速度曝光,可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器

00005. 在所有KVs加速電壓下,可連續(xù)改變的寫場大小,大可以到1mm

00006. GUI人機交互界面友好,簡潔易用,適用于多用戶環(huán)境

00007. 多項靈活可選擇的配置,可以適用于不同應用的需求

可選的系統(tǒng)增強升級

EBPG5150可以選擇不同的升級選項,以滿足用戶不同的技術和預算需求。讓*的高校等研究類用戶也可以使用這款非常*、高自動化的電子束光刻系統(tǒng)。

EBPG5150 應用

· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

 

· 微盤諧振器

· 開口環(huán)諧振器

EBPG5150 產品詳情

主要應用:

· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結構

· 高速電子束直寫

· 批量生產,如化合物半導體器件

· 防偽標識

電子光學柱技術:

· EBPG

· 電子束

· 100 kV

樣品臺:

· 覆蓋完整6英寸硅片大小

· 標配2工位自動化上料
(10工位可選)

 



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