多功能磁控濺射鍍膜機(jī)（TSV1200-S）主要特點(diǎn)： 
　　1，側(cè)面開門結(jié)構(gòu)，便于裝片和換靶 
　　2，*設(shè)計(jì)預(yù)濺射擋板，工藝控制簡(jiǎn)便，節(jié)省時(shí)間 
　　3，*設(shè)計(jì)的充氣和抽氣系統(tǒng)，有效鍍膜區(qū)寬 
　　4，專業(yè)脈沖偏壓非平衡對(duì)靶中頻磁控濺射技術(shù)，鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定 
　　5，采用PLC工控機(jī)控制，可實(shí)現(xiàn)設(shè)備和工藝手動(dòng)和自動(dòng)控制，多重泵閥水電互鎖互保護(hù) 
　　6，安裝采用全程四極質(zhì)譜監(jiān)控和氦質(zhì)譜檢漏，真空密封性好，設(shè)備工藝穩(wěn)定可靠 
　　7，轉(zhuǎn)動(dòng)采用磁流體引入，*運(yùn)轉(zhuǎn)密封可靠 
　　8，綜合效率高，裝片量大。50X70mm工件，**一次可裝800片 
　　9，所有零部件采用國內(nèi)廠家，電器元件采用進(jìn)口或合資企業(yè)產(chǎn)品，設(shè)備*運(yùn)行可靠穩(wěn)定。 
　　 

多功能磁控濺射鍍膜機(jī)（TSV1200-S）　　主要技術(shù)參數(shù)和配置： 
　?。ㄒ唬?，真空系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo) 
　　1，極限真空：優(yōu)于2×10-3Pa； 
　　2，抽速：大氣到5×10-3Pa≤30mm（空載，冷態(tài)，潔凈）； 
　　3，壓升率：小于0.5Pa／hr。 
　　 
　　（二），真空室和真空系統(tǒng)配置 
　　1，鍍膜室尺寸：1210mm（直徑）×1200mm（高）； 
　　2，采用側(cè)面對(duì)開方式，便于工件裝卸； 
　　3，外壁通冷卻水，冷卻水管采用半圓管焊接方式，焊縫美觀，平整； 
　　4，3個(gè)觀察窗口，左右門上各一個(gè)，室體正前方一個(gè)； 
　　5，抽氣室內(nèi)安裝一個(gè)旋轉(zhuǎn)抽氣擋板，旋轉(zhuǎn)角度范圍0～90° 
　　6，兩臺(tái)φ400mm口徑分子泵； 
　　7，1臺(tái)ZJP300型羅茨泵，增加氣動(dòng)旁通閥； 
　　8，2臺(tái)2X-70型機(jī)械泵，一臺(tái)為粗抽泵，一臺(tái)為分子泵維持泵； 
　　9，φ400mm口徑高真空氣動(dòng)閥2套； 
　　 
　?。ㄈぜ旒芤约膀?qū)動(dòng)裝置 
　　1，一套公，自轉(zhuǎn)工轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，采用下驅(qū)動(dòng)方式的二維平面行星機(jī)構(gòu)，自轉(zhuǎn)軸20根； 
　　2，轉(zhuǎn)速0-8圈／分鐘可控可調(diào)； 
　　3，驅(qū)動(dòng)引入采用磁流體密封； 
　　 
　　（四），真空測(cè)量系統(tǒng) 
　　1，采用一臺(tái)數(shù)字式復(fù)合真空計(jì)； 
　　2，一路高真空測(cè)量，兩路低真空測(cè)量（室體一路，低真空管道一路）。 
　　 
　　（五），磁控濺射陰極靶 
　　1，四對(duì)磁控濺射靶（四只外裝靶，四只內(nèi)裝靶，共八只靶） 
　　2，磁控濺射靶靶材尺寸：912mm×120mm（長×寬）；