高真空蒸發鍍膜 2
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- 公司名稱 沈陽美濟真空科技有限公司-J
- 品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2019/5/25 15:25:46
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產品標簽
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| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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高真空蒸發鍍膜 2是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，主要用于有機半導體材料的物理化學性能研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗OLED實驗研究。
設備特點：
1. 高真空蒸發鍍膜 2超高真空密封主要采用如下技術：玻璃金屬焊接技術、陶瓷金屬焊接技術、刀口無氧銅金屬密封技術等，整機主要采用金屬密封技術，前開門用氟膠圈，真空管路用不銹鋼金屬波紋管路，采用超高真空閥門。
2. 運動部件的密封，采用磁力耦合動密封技術。
2. 旋轉部件的密封，采用磁流體密封技術。
4. 基片加熱器采用進口鎧裝加熱絲結構。
5. 蒸發舟配磁力耦合擋板，基片配磁力耦合擋板，保證鍍膜的可控性。
6.極限真空 5×10-5P
7.基片加熱600℃可以調控，控制精度±1℃。
8.膜厚測試采用膜厚儀。
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