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化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>電子顯微鏡>掃描電鏡(SEM)> FEI Quanta 450FEG掃描電鏡

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FEI Quanta 450FEG掃描電鏡

具體成交價以合同協議為準
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掃描電鏡

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源海威科技有限公司是一家專業從事頁巖氣勘探、開發、生產等實驗所需系統解決方案的提供商。

 

 

主營產品

       用于巖石分析、地球化學分析、含氣性試驗分析、致密巖石實驗分析、儲層改造與開發實驗分析、儲層物性分析等儀器,頁巖氣分析軟件、生產用儀器以及生產用耗材等。

 

石油儀器

價格區間 面議 儀器種類 冷場發射

研究各種各樣的材料,并進行結構和成份表征,是目前對掃描電鏡的主流應用要求。FEI Quanta FEG系列靈活、通用,足以應對當今人們廣博的研究方向這一挑戰。“分析任何樣品,得到所有數據”,在Quanta FEG上可得到表面像和成份像,并可輔以多種附件來確定材料的性質和元素組成。

一、 主要優點

1) FEI Quanta 450FEG掃描電鏡具有環境掃描技術的高分辨場發射掃描電鏡

2) 在各種操作模式下分析導電和不導電樣品,得到二次電子像和背散射電子像

3) 很大程度降低樣品制備要求:低真空/環境真空技術使得不導電樣品和/或含水樣品不經導電處理即可直接成像和分析,樣品表面無電荷累積現象

4) 專業的“穿過透鏡”的壓差真空系統,對導電和不導電樣品都可進行EDS/EBSD分析,不管是在高真空模式或在低真空模式。穩定的大束流(大 200 nA)確保能譜及EBSD分析工作的快速、準確

5) FEI Quanta 450FEG掃描電鏡可作為一個微觀實驗室。安裝特殊的原位樣品臺后,在從- 165 °C到1500 °C溫度范圍內,對多種樣品保持其原始狀態下進行動態原位分析

6) 對導電樣品,可選用減速模式得到表面和成份信息

7) 直觀、簡便易用的軟件,即使電鏡新手也能輕易上手

二、 典型應用

1、納米表征

1)金屬及合金, 氧化/腐蝕, 斷口, 焊點, 拋光斷面, 磁性及超導材料

2)陶瓷, 復合材料, 塑料

3)薄膜/涂層地質樣品斷面, 礦物

4)軟物質: 聚合物, 藥品, 過濾膜, 凝膠, 生物組織, 木材

5)顆粒, 多孔材料, 纖維

2、原位過程分析

1)增濕/去濕

2)浸潤行為/接觸角分析

3)氧化/腐蝕

4)拉伸 (伴隨加熱或冷卻)

5)結晶/相變

3、納米原型制備

1)電子束曝光 (EBL)

2)電子束誘導沉積(EBID)

三、主要參數

1、電子光學

1)高分辨肖特基場發射電子槍

2)優化的高亮度、大束流鏡筒

3)45°錐度物鏡極靴,及“穿過透鏡”的壓差真空系統,加熱式物鏡光闌

4)加速電壓: 200 V - 30 kV

5)束流: 大200 nA并連續可調

6)放大倍數: 6 x 1,000,000 x (四幅圖像顯示)

2、分辨率

1)高真空

30 kV下0.8 nm (STEM)*

30 kV下1.0 nm (SE)

30 kV下2.5 nm (BSE)*

1 kV下3.0 nm (SE)

2)高真空下減速模式*

1 kV下3.0 nm (BSE)*

1 kV下2.3 nm (ICD)*

200 V下3.1 nm (ICD)*

3)低真空

30 kV下1.4 nm (SE)

30 kV下 2.5 nm (BSE)

3 kV下3.0 nm (SE)

4)環境真空 (ESEM)

30 kV下1.4 nm (SE)

3、檢測器

1)E-T二次電子探頭

2)大視場低真空氣體二次電子探頭 (LFD)

3)氣體二次電子探頭 (GSED)

4)樣品室紅外CCD相機

5)高靈敏度、低電壓固體背散射探頭*

6)氣體背散射探頭*

7)四分固體背散射探頭*

8)閃爍體型背散射探頭/CLD*

9)vCD (低電壓、高襯度探頭)*

10)鏡筒內探頭(ICD),用于減速模式下二次電子檢測*

11)電子束流檢測器*

12)分析型氣體背散射探頭 (GAD)*

13)STEM探頭*

14)Nav-Cam 光學相機彩色成像,用于樣品導航*

15)陰極熒光探測器*

16)能譜*

17)波譜*

18)EBSD*

19)極靴底部安裝四環分隔式定向型背散射電子探頭 (DBS)*

4、真空系統

1)1個 250 l/s 渦輪分子泵, 2個機械泵

2)專業的“穿過透鏡”的壓差真空系統

3)電子束在氣體區域的行程:10 mm或2 mm

4)可升級成無油機械泵

5)2個離子泵

6)樣品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa

7)樣品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa

8)樣品室真空度(環境真空模式) < 10 to 4000 Pa

9)典型換樣時間: 高真空模式≤ 150秒;低真空及環境真空模式≤ 270秒 (FEI標準測試程序)

5、樣品室

1)左右內徑284 mm

2)10 mm分析工作距離

3)8個探測器 / 附件接口

4)EDS采集角: 35°

6、樣品臺

1)X/Y = 100 mm

2)Z = 60 mm

3)Z向間隙75mm

4)傾斜:- 5° - + 70°

5)連續旋轉360°

6)重復精度: 2 μm (X/Y方向)

7)偽全對中樣品臺

7、樣品座

1)多樣品座

2)單樣品座

3)通用樣品座套件*

4)適用于硅片或其它特殊要求的樣品座*

8、圖像處理器

1)大6144 x 4096像素

2)圖像文件格式:TIFF (8,16 or 24 bit), BMP or JPEG

3)單窗口或四窗口圖像顯示

4)四活動窗口

5)實時或靜態按彩色或按灰度等級信號混合

6)256 幀平均或積分

7)數字動畫記錄 (.avi格式)

8)直方圖及圖像測量軟件

9)DCFI (漂移補償積分)

9、支持軟件

1)SmartSCAN 智能掃描技術

2)蒙太奇圖像導航

3)軟件溫度控制

4)FEI動畫生成工具



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