安捷倫ICP-MS等離子體質譜
- 公司名稱 科沃安科技(蘇州)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2019/2/28 22:29:49
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價格區間 | 200萬-300萬 | 儀器種類 | 激光進樣系統 |
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安捷倫ICP-MS等離子體質譜的ICP-MS技術在分析能力上,超過傳統的無機分析技術如電感耦合等離子體光譜技術(ICPAES)、石墨爐原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技術(CVAAS)的總和,被稱為當代分析技術激動人心的發展。
安捷倫ICP-MS等離子體質譜技術的應用領域包括:
環境樣品分析,包括自來水、地表水、地下水、海水以及各種土壤、廢棄物等的分析
半導體材料分析
玻璃、陶瓷和礦冶等樣品分析
地質學研究
生物食品及醫藥臨床研究
核材料分析
石油化工樣品分析
法醫應用與研究
近,與分離技術聯用進行環境毒理、生命科學等領域的元素價態、形態分析成為ICP-MS技術應用的一個焦點。
分析特性:
可快速同時檢測周期表上幾乎所有元素
低的檢出限(低至ppq級)
寬的線性動態范圍—可直接檢測從ppq到數百ppm濃度
譜線簡單、干擾小,準確度和精密度好
需要樣品量很低(ul至ml),分析速度很快(1~3分鐘/樣品)
檢測模式靈活多樣
半導體工業常用材料中超痕量污染物分析
固體:Si;GaAa單晶切片;石英、碳化硅等爐材料;高純金屬電極等
液體:超純水;HF;HNO3;HCI;H2SO4;H2O2;氨水等
氣體:SiH4;TE0S;NF3;N2等
Agilent ICP-MS可直接分析有機樣品。
Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等離子體技術已被用于測定一系列有機樣品的ppt級痕量污染元素。
對其中一些樣品,其他方法無法得到滿意的結果,高功率屏蔽矩冷等離子體技術分析方法。
強堿性清洗劑——四甲基氫氧化氨(TMAH)等
常用有機溶劑——甲苯、二甲苯、IPA等
高基體樣品——光刻膠、液晶、BPSG、PSG等揮發性*的清洗劑——丙酮、甲醇等