光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 能源,電子,電氣,綜合 |
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超高真空開爾文探針-材料表征
開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動電容裝置用于導電材料的功函或半導體或絕緣體材料表面的表面電勢,表面功函由材料表面最頂部的1-3層原子或分子決定,因而開爾文探針是一種非常靈敏的表面分析技術,KP Technology公司目前可提供具有1-3 meV業界最高分辨率的測試系統。
UHV-KP020 是超高真空室的一個*補充工具,可靠的和可重復的可輕松獲得,包括高質量的線性解碼器,使得探針和樣品的定位變得簡單, 的跟蹤系統在測試過程中始終將探針和樣品恒定的分開。對于薄膜研究,亞單層范圍檢測是很平常的;也可選購SPV020或SPS030表面光電壓模塊用于光敏材料研究。
超高真空開爾文探針-材料表征
技術參數:
● 功函分辨率1-3meV(2-10mm探針)
● 用戶自定針尺寸(2-10mm)
● 用戶自定探針長度(法蘭到樣品)
● DN40(2.75''安裝端口)-其他可選
● 50mm手動平移器(100mm可選)
● 真空度2X10-11mbar
● 跟蹤系統自動控制樣品和探針距離
● 過零信號檢測系統抑制寄生電容
選件:
● 電動平移器
● UHVSKP
● UHVSKP
● 表面光電壓模塊SPV020和SPS030
我司在華南理工大學完成的UHVSKP超高真空開爾文探針已經順利通過該校驗收。各項性能均達到設計需求。