光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
---|---|---|---|
應用領域 | 化工,電子,電氣,綜合 |
集成式低溫等離子體源
--基于壓電變壓器直接放電,同時在元件的輸出端直接產生冷等離子,等離子通過電離空氣或氣體來形成。
集成式低溫等離子體源性能特點
◆ 等離子功率密度高
◆ 高效激發冷等離子體
◆ 產生溫度< 50°C冷等離子體
◆ 直接放電,低輸入電壓、高輸出電壓
◆ 手持操作
◆ 適用于幾乎所有的材料
◆ 設計集成氣體連接
◆ 用壓縮空氣或氮氣操作
◆ 易于集成到系統
◆ 通過外部開關信號發射
◆ 最大操作安全
◆ 最效率
◆ 可變噴嘴,為特殊材料和結構
◆ 可固定安裝或移動
可實行的應用和行業
• 活化表面能
實驗室科學、醫學技術、精密機械、微觀力學、光學、裝配技術、電子技術、模型制作
• 印刷和膠粘
噴墨印刷、移印、微隙填充、自動化流程的潤濕操作
• 殺菌和消毒
微生物學技術、醫療技術、食品裝、微流體技術
可用于以下工序預處理
• 膠粘 • 印刷 • 印染 • 鑄造 • 層壓 • 發泡 • 涂層 • 清洗 • 鍵合 • 密封
應用材料廣泛
• 合成纖維 • 天然織物 • 復合材料 • 電子組件
• 玻璃鋼 • 鋁合金 • 金屬 • 塑料
• 玻璃 • 木材 • 陶瓷 • 粉末
技術參數
名稱 | 技術參數 | 單位 |
電源連接 | 110 - 240 V / 50 - 60 Hz / 15 V DC | V |
功率需求 | Max.30 | W |
集成設計 | Design integration unit with gas connection | |
重量 | 180 | g |
等離子體溫度 | <50 | ℃ |
標準的處理距離 | 2-10 | mm |
標準的處理寬度 | 5-20 | mm |