光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 進口 | 應用領域 | 能源,電子,電氣 |
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真空腔體水氣解吸附組件2
儀器簡介:
ZCUVE代表了水蒸氣解吸技術的新進展。*的設計可從2.75“擴展到8”法蘭尺寸,比例更高的紫外線功率因數和更大的法蘭尺寸。
ZCUVE的設計是為了解吸大型沉積室中的水,在這種情況下,真空室內不可能有暴露的紫外線發射器。標準的現成百葉窗可以用來防止ZCUVE在沉積過程中被涂層。
該工藝適用于o型環(Viton)密封真空室,沒有任何其他烘烤方式,也適用于較小尺寸的負載鎖。
技術參數:
真空腔體水氣解吸附組件2
型號 | 法蘭口徑 |
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Z275 | 2.75" / 40 CF |
Z450 | 4.5" / 63 CF |
Z600 | 6.0” / 100 CF |
Z800 | 8.0” / 160 CF |
一個外部組件容納紫外線發射器,它位于高紫外線傳輸,超高真空窗口后面。發射器背面的鏡子進一步改善了185納米紫外線通過窗戶進入真空室的傳輸。ZCUVE外殼用惰性氣體回填,以防止外殼內產生臭氧。最后,發射極引線通過MHV高壓連接器連接到控制裝置。
ZCUVE - Shutter Closed | ZCUVE - Shutter Open |
利用UVC輻射解吸水蒸氣的優點是產生的熱量很少。更少的熱量意味著對機械零件和樣品的損壞更少。
另一個優點是,UVC不需要一個直接的位置線來解吸水蒸氣。它不能進入角落和縫隙,但它能反射出拋光表面(如室壁),每次“反彈”損失50%至70%。
主要特點:
UVB-100
The UVB-100 uses UVC radiation to desorb water vapor without heat. The emitter extends into the vacuum chamber.
ZCUVE
The ZCUVE (Zero Clearance UV Emitter Water Vapor Desorption System) uses UVC radiation to desorb water vapor without heat. The emitter resides outside the vacuum chamber.
注:這些水蒸氣解吸產品設計用于高真空系統、大真空、腔室和負載鎖。它們不是為了取代超高真空系統中的輻射烘烤方法而設計的,而是與超高真空兼容的