GSC-1000 磁控濺射系統(鍍膜儀)
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 韋氏納米系統(深圳)有限公司
- 品牌
- 型號 GSC-1000
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2018/8/21 9:41:11
- 訪問次數 728
產品標簽
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磁控濺射技術
GSC-1000磁控濺射系統概述:
帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉平臺,最大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
GSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體,2個2"的磁控管,DC直流電源用于濺射金屬,并帶有膜厚監測儀(選配)。
產品特點:
不銹鋼,鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯鎖功能
選配項: Thickness Monitor 膜厚監測 | |
應 用:
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