UVM-1™全光譜顯微鏡的設計是將紫外-可見-近紅外成像技術和顯微技術相結合，能夠*的實現紫外-可見-近紅外的成像。具有前沿技術的UVM-1™全光譜顯微鏡結合CRAIC創新設計的光學技術，用戶僅用一臺顯微鏡就能在整個寬光譜范圍內完成顯微成像，無論是高分辨能力，還是光譜成像能力， UVM-1™都代表了顯微成像領域的高水平。

      UVM-1™全光譜顯微鏡具有*的多功能系統設計，能夠允許用戶只在一臺顯微鏡上獲得紫外-可見-近紅外的高分辨率成像和分析結果。紫外顯微鏡對半導體內微量異物有很高的靈敏性，相比標準的顯微鏡，具有強大的的能力測量微量變化。近紅外顯微鏡能夠無損的、有選擇性的對硅晶片設備內部的電子電路進行精確的成像,這些應用知識是其眾多應用領域的一小部分。 UVM-1™也可與拉曼一起提供給您更多的功能。UVM-1™全光譜顯微鏡靈活的設計使其在任何應用領域都能做到顯微光譜分析工具。

UVM-1™參數