| 靶材材質(zhì) | 金、銀、鉑 | 靶材尺寸 | φ50mm |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
| 濺射氣體 | 空氣、氬氣 | 控制方式 | 半自動(dòng) |
| 樣品倉(cāng)尺寸 | 160mm×120mm（D×H）mm | 樣品臺(tái)尺寸 | 70mm |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,石油,地礦,汽車,綜合 | 濺射方式 | 磁控濺射 |
| 濺射速錄 | 0-40nm | 金 | 濺射一分鐘電阻可達(dá)幾歐姆 |
| 顆粒 | 5-20nm | 材料 | 減少對(duì)熱敏材料的損傷 |
| 電流 | 0-100MA | 濺射溫度 | 常溫-50° |
SD-900M磁控濺射儀鍍膜儀博遠(yuǎn)微納SD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致。
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。
配有高位定性的飛躍真空泵
SD-900M磁控濺射儀博遠(yuǎn)微納朗
The SD-900M ion sputtering apparatus has beautiful appearance and exquisite workmanship.
Magnetron sputtering is a kind of Physical Vapor Deposition (PVD). The general sputtering method can be used to prepare materials such as metal, semiconductor, insulator and so on. It has the advantages of simple equipment, easy control, large coating area and strong adhesion. The magnetron sputtering method has achieved high speed, low temperature and low damage. Because of the high velocity sputtering at low pressure, the ionization rate of gas must be increased effectively. Magnetron sputtering improves the plasma density by increasing the plasma density by introducing magnetic field on the cathode surface and confining the charged particles by magnetic field.
Equipped with high stability of vacuum pump
| 濺射氣體 | 濺射靶材 | 濺射電流 | 濺射速率 | 樣品倉(cāng)尺寸 | 樣品臺(tái)尺寸 | 工作電壓 |
| 根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康目商砑託鍤猓獨(dú)獾榷喾N氣體。 | 標(biāo)配靶材為金靶， 厚度為50mm*0.1mm。 也可根據(jù) 實(shí)際情況配備 銀靶、鉑靶等。 | 電流 50mA,工作電流30mA | 優(yōu)于60nm/min | 直徑160mm，高120mm | 樣品臺(tái)尺寸 可安裝直徑50mm 和直徑70mm的 樣品臺(tái)， 也可根據(jù) 自身要求定制樣品臺(tái) | 220V (可做110V), 50HZ |
電子束敏感的樣品 | 非導(dǎo)電的樣品 | 新材料 |
主要包括生物樣品， 塑料樣品等。S EM中 的電子束具有較高能量， 在與樣品的相互作用 過(guò)程中，它以熱的形式 將部分能量傳遞給樣品。 如果樣品是對(duì)電子束 敏感的材料，那這種相互 作用會(huì)破壞部分 甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。 這種情況下，用一種 非電子束敏感材料制備 的表面鍍層就可以起到 保護(hù)層的作用，防止此 類損傷； | 由于樣品不導(dǎo)電， 其表面帶有“電子陷阱”， 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”。 為了消除荷電效應(yīng)， 可在樣品表面鍍一層 金屬導(dǎo)電層，鍍層作為 一個(gè)導(dǎo)電通道， 將充電電子從材料 表面轉(zhuǎn)移走，消除 荷電效應(yīng)。在掃描電鏡 成像時(shí)，濺射材料 增加信噪比，從而獲 得更好的成像質(zhì)量。 | 非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電極 制作觀察導(dǎo)電特性 |
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