產地類別 | 國產 | 應用領域 | 冶金 |
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真空電弧爐主要用途:
用于熔煉高熔點金屬/合金,電弧法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所及企業進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
系統組成:
真空電弧爐主要由真空獲得及測量系統,電弧熔煉、工作氣路、水冷系統、電控系統及安裝機臺等組成。
技術指標:
電弧熔煉室:立式圓筒型真空室,尺寸φ300mmX320mm
真空系統配置:機械泵、分子泵或擴散泵
極限壓力 (Pa):電弧熔煉室≤6.67x10-4Pa
電弧熔煉電流:*工作電流200-400A
熔煉坩堝
有五個工位 (半球窩SR25) ,
四個熔煉合金工位
一個熔煉除氣工位。
熔煉樣品重量 (以鐵標定) 30克。
電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧。