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PECVD 多功能PECVD

參考價 500000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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公司名稱(現用名):北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區域:北京、天津、河北

 

       北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創立于2013年,位于中國·首都北京密云經濟技術開發區,主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養于一體的專業性的公司,公司擁有一支專業、優秀的產品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業經驗,同時還與北京工業大學聯合研發等離子體增強化學氣相沉積系統,與北京交通大學聯合研發原子層沉積系統,滿足高校、研究所的教學、科研使用,同時減少相關進口設備的*,并力爭創造外匯,打出中國創造的品牌!  


       我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、部分*單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!

 

       您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標!
       技術創新、業務專業、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!

 

       我們熱誠歡迎國內外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯系開展各層面的合作,打造成真空系統產品、等離子體增強化學氣相沉積系統和原子層沉積系統供應商。

ALD設備,PECVD設備

產地類別 國產 價格區間 30萬-50萬
應用領域 電子,航天,電氣

團簇式多功能PECVD

該系列PECVD系統具有固態等離子源、分開式反應氣體進氣系統,動態襯底溫控,全面控制真空系統,采用集中現場控制總線技術的“值守精靈”控制軟件,以及友好用戶操作界面來操作。適用于室溫至1400℃條件下進行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉積,同時可實現TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態或氣態源沉積其它材料,尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。
清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;上開啟結構,式樣觀察方便;觸屏人機對話整體性操作,安全可靠;多功能PECVD采用全自動控制方式,觸摸屏,數字化顯示;真空系統、工作壓強、電源系統及自動匹配、工藝氣體流量、加熱系統、運動系統、工藝過程、系統監控及數據采集等。



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