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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機>wayes-zm 桌面型磁控濺射鍍膜機

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wayes-zm 桌面型磁控濺射鍍膜機

參考價 198000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


公司名稱(現用名):北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區域:北京、天津、河北

 

       北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創立于2013年,位于中國·首都北京密云經濟技術開發區,主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養于一體的專業性的公司,公司擁有一支專業、優秀的產品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業經驗,同時還與北京工業大學聯合研發等離子體增強化學氣相沉積系統,與北京交通大學聯合研發原子層沉積系統,滿足高校、研究所的教學、科研使用,同時減少相關進口設備的*,并力爭創造外匯,打出中國創造的品牌!  


       我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、部分*單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!

 

       您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標!
       技術創新、業務專業、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!

 

       我們熱誠歡迎國內外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯系開展各層面的合作,打造成真空系統產品、等離子體增強化學氣相沉積系統和原子層沉積系統供應商。

ALD設備,PECVD設備

產地類別 國產 價格區間 10萬-30萬
應用領域 電子,印刷包裝,航天,電氣

桌面型磁控濺射鍍膜機設備用途:
桌面型磁控濺射鍍膜機用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設備組成
系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(3個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。
技術指標:
1. 極限真空度6.7×10-5Pa; 分子泵滿速1小時后真空度達到4×10-4Pa;
2. 超高真空磁控靶:有效尺寸3英寸,數量:3支,永磁靶(自帶側開擋板),水冷;
3. 靶基距120-200mm可調,用光軸加直線軸承導向,可手動連續調節,有刻度指示;三靶共濺射,靶可擺角度,角度為0~45℃;
4. 樣品加熱:采用碘鎢燈加熱方式對樣品進行加熱,樣品zui高可加熱400℃;
5. 磁控濺射樣品有效尺寸:Φ60mm,一次只鍍1片;鍍膜時樣品架實現自轉,自轉轉速為0~50轉/分;樣品加負偏壓0-200V可調;
6. 氣體控制:氣體流量通過兩路質量流量控制器控制,流量范圍為:0~50 sccm;
7. 系統帶有手動控制功能,主要實現樣品的加熱控制;樣品的旋轉控制;磁控靶檔板的控制;真空度的采集。



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