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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>集成電路測試與分選設備>探針臺>HS1500G 超高溫熱臺

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HS1500G 超高溫熱臺

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西努光學創建于2003 年,主營工業顯微鏡及制樣設備、鏡片測定設備,高速攝像系統、工業內窺鏡、機器視覺等工業及科研應用的檢測設備及系統集成。
西努光學秉承“以光學為核心,為客戶提供解決方案”的經驗思路,經過16年的努力,成為眾多企業、高校科研單位提供各種專業化的光學系統解決方案。并于2012 年導入SAP 管理系統,通過系統資源整合,為客戶提供更優質、快捷的專業化服務。
2016 年,我們積極引進檢測設備的同時導入制樣等配套設備以豐富我們實驗室平臺,以更好的為客戶提供現場體驗,從微米到納米滿足客戶從制樣到結果分析的一站式體驗服務。

西努光學 誠信為您服務 專業為您服務

垂詢專線:400-6807517  

微信服務號:cinvoptics/西努光學

更多信息請登錄:http://www.cinv.cn 

奧林巴斯顯微鏡,奧林巴斯工業內窺鏡,iX高速攝像機,標樂金相制樣設備,威爾遜硬度計,navitar鏡頭,日立掃描電鏡,加拿大WDI光學設備

HS1500G高溫熱臺HS1500G高溫熱臺專為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計,可用于陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線,可定制樣品區。

此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1500℃ 范圍內控溫,同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔,且樣品區偏離視窗中心,這樣即可以充入氮氣等保護氣體,來防止樣品高溫下反應,又可以通過旋轉窗片來移開窗片上的揮發物。

功能特點:

· 30℃~1200℃ 可編程控溫
· Φ8 mm加熱區
· 樣品區-視窗 偏心設計,可旋轉窗片移開高溫揮發物
· 可充入保護氣體的氣密腔
· 可從溫控器或電腦軟件控制,可提供軟件SDK

溫控參數


溫度范圍

30℃ ~ 1500℃

加熱塊材質

耐高溫陶瓷

傳感器/溫控方式

S型熱電偶 / PID控制

*大加熱/制冷速度

+200℃/min <850℃時); +20℃/min >850℃時)

*小加熱/制冷速度

±0.5℃/min

溫度分辨率

0.1℃

溫度穩定性

±1℃

軟件功能

可設溫控速率,可設溫控程序,可記錄溫控曲線

光學參數


適用光路

透射光路 和 反射光路

窗片

可拆卸與更替的窗片

*小物鏡工作距離

6.3 mm (標準) 11.7 mm (增高蓋) *截面圖中WD

*小聚光鏡工作距離

11.75 mm  *截面圖中CWD

透光孔

Φ2 mm *截面圖中ΦVA

上蓋窗片觀察

窗片范圍Φ28mm,*大視角±45°(標準)

窗片范圍Φ16mm,*大視角±34°(增高蓋)         *截面圖中θ1

底部窗片觀察

*大視角±21.6° *截面圖中θ2

高溫下顯微鏡降溫

吹氣降溫

結構參數


加熱區/樣品區

Φ8 mm

樣品腔高

3.5 mm

*樣品*大厚度 = 樣品腔高 樣品襯底厚度

樣品襯底

默認為石英坩堝(Φ6 mmx1 mm

上蓋

可調壓力的窗蓋,兼顧氣密型與窗片旋轉

氣氛控制

氣密腔,可充入保護氣體

外殼冷卻

通循環水,以維持外殼溫度在常溫附近

安裝方式

水平安裝 或 垂直安裝

臺體尺寸/重量

141 mm x 62 mm x 25.3 mm / 1350g

配置列表


基本配置

HS1500G高溫熱臺 、mK2000B溫控器 、外殼循環水冷系統

可選配件

冷熱臺安裝支架 、真空系統(僅用于真空型號)、樣品接電引線

增高蓋


適用于 紅外設備 的超高溫應用

增加加熱區與紅外玻璃距離,防止損壞




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