1、技術參數要求

1.1光學系統

1.1.1 窄光束設計，無透鏡全反射的光學系統*密封，光學部件采用石英涂層；

1.1.2 全鑄鋁光學底座，特殊的防震設計，保證儀器的堅固可靠和的穩定性；

1.1.3采用單色器，低雜散光，拓寬線性范圍，并降低檢出限；

1.1.4波長范圍：185～900nm，計算機控制，自動選擇波長；

1.1.5波長掃描速度：2000nm/min；

1.1.6自動狹縫切換，0.2、0.5、1.0nm及高低檔；

1.1.7 固定8燈座，旋轉鏡面，自動快速選擇元素燈；

1.1.8 火焰和石墨爐部分具有獨立的光學平臺和檢測系統。

1.1.9 能夠同時進行火焰和石墨爐測定

1.2霧化及安全系統

1.2.1 霧化系統由氟塑料制成，能夠耐強酸和有機溶劑；霧化器溶液提升量可調節；

1.2.2 燃燒頭為合金制造，基座附防腐蝕屏蔽膜，耐腐蝕，不發脆； 燃燒頭防堵效果好，能適合高鹽樣品分析；

1.2.3 撞擊球：玻璃或耐氫氟酸的撞擊球，撞擊球前后位置外部可調；

1.2.4 雙頭擾流器：置于霧化室內，適用于高鹽樣品的測定，提高測定的準確度和精密度；

1.2.5具有安全聯鎖監控，保護操作人員的安全；

1.2.6 具有快速分析速度的能力：2分鐘內能準確分析樣品中10個不同被測元素含量。

1.2.7 具有內標校正功能：確保測定結果更準確；

1.2.8 元素燈能實現同時預熱功能。

2、檢測器及背景校正

2.1寬范圍光電倍增管，可獲zui大的信噪比；

2.2 高強度氘燈背景校正，可校正到2.5Abs的背景，響應時間為2ms，準確校正實際背景；帶有自動衰減的調節功能；

2.3 5ppm銅吸光度值大于0.9Abs，精密度RSD小于0.5%。

3、石墨爐部分：

3.1 石墨爐系統：石墨爐溫度控制準確，石墨爐塞曼磁場多級可調；

3.2 穩定溫度區域控制技術：40～3000℃可進行程序升溫，zui大升溫速度為2000 ℃/s；

3.3 獨立的兩路內外氣保護設計，銅的典型操作次數可達5000次以上；

3.4 石墨爐采用動態溫度反饋系統，控溫精確；

3.5具有多點曲線擬合法摸擬背景吸收曲線，能夠實現更準確描繪出背景信號的真實峰形塞曼背景校正；

3.6 交流橫向塞曼扣背景技術；塞曼扣背景響應小于5ms；實時監測背景信號，結果更可靠；

3.7 石墨爐塞曼磁場強度0.1～0.8特斯拉多級可調，計算機控制；

3.8 塞曼背景校正可滿足185～900nm全波長范圍高達2.5Abs的背景吸收；

3.9  特征質量：Cd 0.2pg；

3.10 儀器內聯鎖裝置：主電源功率、磁場聯接、磁場溫度；

3.11 外部內聯鎖裝置：石墨爐內、外氣氣壓監控，冷卻水壓力和溫度，石墨管狀態。

4、石墨自動進樣器:

4.1 自動進樣器，能克服自動進樣器易產生氣泡的問題；

4.2 具有石墨爐彩色攝像系統，實時檢測石墨管內狀況，并且確定方法中每步驟溫度是否合適；

4.3放置50個2ml樣品瓶和5個25ml樣品瓶；130位可選；

4.4樣品進樣體積：1-70ul；

4.5可由同一個母液自動配置多達10個濃度的溶液或標準曲線；

4.6可自動添加3種基體改進劑，預進樣/后進樣或與樣品一起進樣。具有自動減少超標樣品進樣體積功能；

4.7可多次進樣99次。對于快速分析，可進行“熱進樣”，進樣速度和溫度在40～200 ℃范圍內編程；

4.8 樣品進樣重現性：RSD <1%；

4.9 自動進樣器能適用于：水、乙醇、甲醇、丙酮等多種溶劑。

5、控制軟件：

5.1 能夠同時進行火焰和石墨爐測定

5.2 全中文操作軟件，采用獲獎的“工作表格”概念；提供中文在線幫助系統、維護視頻和中文操作手冊；

5.3 火焰在線內標校正技術可以校正由于物理干擾、樣品制備誤差和*使用的儀器漂移等所造成的偏差；

5.4 石墨爐自動優化參數程序；

5.5 石墨爐攝像系統，實時監測石墨管中的情況，及時采用適當的石墨爐條件。

6、*水循環冷卻系統

配置：

6.1. 原子吸收光譜儀主機1臺（包含火焰部分和石墨爐部分）；

6.2  石墨爐；

6.3  自動進樣器；

6.4  空氣/乙炔燃燒頭；

6.5  區域組件，工具包；

6.6  空心陰極燈，石墨管3包；   

6.7  空氣壓縮機 1 臺；

6.8  *水循環冷卻系統 1 臺；

6.9 操作系統、計算機及打印機 1 套；

6.10 氬氣、乙炔氣瓶各一個