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日立分析儀器(上海)有限公司

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EMC-NANO-UV 紫外/可見分光光度計

具體成交價以合同協(xié)議為準

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北京賽美思儀器設(shè)備有限公司簡介

北京賽美思儀器設(shè)備有限公司前身是北京賽美思科技有限公司(2003年成立的企業(yè)) ,是以引進具有先進和創(chuàng)新技術(shù)為基礎(chǔ)的歐洲,美國,日本等國家的設(shè)備為主的公司.設(shè)備主要用于制藥、化工材料方面:包括從實驗室到中試放大的合成分離、提取的平行合成儀、連續(xù)流反應(yīng)釜、 玻璃以及不銹鋼反應(yīng)釜和全自動反應(yīng)設(shè)備等;旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、薄膜蒸發(fā)儀、過濾反應(yīng)釜等;與HPLC 數(shù)據(jù)分析使用的軟件;配套的溫控、真空泵、蠕動泵等.公司從2018年引進生物行業(yè)的發(fā)酵罐、植物光照培養(yǎng)箱、果蠅箱、培養(yǎng)箱,人工氣候室、搖床等;各行業(yè)廣泛應(yīng)用的液體轉(zhuǎn)移用的手動泵,桶泵,隔膜泵,離心泵等.

公司以服務(wù)客戶,與客戶共贏為目標.總部位于北京,并于上海設(shè)有分公司上海賀美儀器設(shè)備有限公司.廣州設(shè)有辦事處,負責國內(nèi)的市場,技術(shù),銷售以及售后服務(wù).

公司自成立以來,從滿足客戶多樣化需求出發(fā),能及時提供價格合理、性能多樣化的設(shè)備解決方案.公司擁有專業(yè)的技術(shù)和銷售人才,能夠根據(jù)客戶的需求設(shè)計系統(tǒng)的解決方案;技術(shù)過硬的維修工程師,能夠很好地為客戶提供完善的售前售后服務(wù)。

18年來,公司依靠雄厚的技術(shù)實力、科學合理的配置方案、專業(yè)的安裝調(diào)試和周到的售后服務(wù),贏得各大高校、中科院研究所、醫(yī)學研究部門及眾多的制藥、石油化工公司等廣大用戶的支持與信賴.

公司歷史年鑒:

2003 年成立北京賽思科技有限公司(為新技術(shù)企業(yè))

2004 年6月1日,北京賽美思與德國HUBER公司簽訂協(xié)議,賽美思成為HUBER在中國辦事處

“HUBER CHINA” 為中國授權(quán)的銷售,技術(shù)服務(wù)中心.同時簽約德國GENSER,

瑞士ESCO,英國RADLEYS 在中國地區(qū)的代理.VACUUBRAND 在中國地區(qū)代理,

英國ASYNT 公司在中國地區(qū)代理.

 

2005 年成立SMS (HK) Science &Technoly Co ltd賽美思在上海成立辦事處,并且開始與日本ASAHI 和VACUUBRAND公司合作.

2006 年與美國CHEMGLASS公司正式簽訂合作協(xié)議

2007 年成立北京賽美思儀器設(shè)備有限公司

2008年成立廣州辦事處與日本ASAHI公司成立上海愛莎旭儀器設(shè)備有限公司,

日本公司加派EIJI作為日方代表在中國工作

2014年在澳大利亞成立海外公司,開始出口中國的設(shè)備

2015年在德國成立公司,開始打包進口歐洲的設(shè)備和配件,

成立HUBER 維修中心中心位于北京順義張鎮(zhèn)

2018年與Hitec Zang 建立合作進軍全自動工廠得項目與德國JESSBERG 公司建立代理關(guān)系,開始涉足液體轉(zhuǎn)移(手動液體 轉(zhuǎn)移泵,插桶泵,隔膜泵,螺桿泵等) ;

和杭州雪中炭公司建立長期合作關(guān)系.

2019年 與英國Uniqsis 公司簽訂中國地區(qū)代理協(xié)助,在中國和客戶成功共建三個合作實驗室.

2020年 開始建立配套的生產(chǎn)和設(shè)計工程的人員,場地,開始為客戶提供交鑰匙的解決方案.

 

 

 

恒溫水浴、油浴、中試反應(yīng)釜控溫設(shè)備、反應(yīng)釜全封閉控溫系統(tǒng);無油隔膜泵、油封旋葉泵、雜交泵、壓力表、泵系統(tǒng)及真空控制器;磁力攪拌器、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、頂置攪拌;超低溫反應(yīng)釜、玻璃高壓反應(yīng)釜、短程蒸餾設(shè)備;平行合成儀;反應(yīng)釜;真空乳化儀、研磨機等。

價格區(qū)間 面議 接收器類 CMOS
儀器結(jié)構(gòu) 單光束 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥
自動程度 自動波長

紫外/可見分光光度計 儀器特點:

EMC-NANO-UV

-樣品體積為 0.2~2.0µl的新型NANO比色皿 +10x10 mm比色皿托架

-簡單易用

-水平光路 - 無能量損耗

紫外/可見分光光度計 EMC-NANO-UV 詳細參數(shù):

Wavelength Range190-1100 nm

Spectral Bandwidth4 nm

Optical SystemSingle Beam, grating 1200 lines/mm

Wavelength Accuracy±0.5 nm

Wavelength Repeatability0.3 nm

Photometric Accuracy≤±0.5 % T or ±0.004A@1A

Photometric Range0-200 % T, -0.3 - 3A, 0-9999 Conc.

Scan SpeedHi, MED, LOW MAX: 3000nm/min

Stray Light0.05 % T@220, 340 nm

Stability±0.002A/h@500 nm

Baseline Flatness±0.002A (200-1000 nm)

Noise0.0005A@500 nm

DetectorSilicone Photodiode

DisplayLCD 320*240

Central beam height15 mm

Flip Cell Holder0.2~2.5 μl and cuvette 10 mm path length

Light SourceTungsten & Deuterium lamp

Power RequirementAC 110/220V 50/60 Hz

Dimensions(LxH) 490 x 370 x 220 mm

Weight14kg


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