VTC-5RFI薄膜研究 5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司
品牌 合肥科晶
型號(hào) VTC-5RFI薄膜研究
產(chǎn)地 安徽省合肥市蜀山區(qū)科學(xué)院路10號(hào)
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2024/10/22 16:29:35
訪問(wèn)次數(shù) 3323

產(chǎn)品標(biāo)簽

射頻濺射儀合肥科晶合肥科晶實(shí)驗(yàn)室科晶集團(tuán)江曉平

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公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

　　合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年，是由一群來(lái)自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國(guó)MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實(shí)驗(yàn)室成套設(shè)備：包括“混料-壓料-燒料”(混料機(jī)、壓片機(jī)、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機(jī)、自動(dòng)研磨、拋光機(jī))。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品，其中包括：箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機(jī)、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。現(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)備的*，為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計(jì)*、性能優(yōu)異，質(zhì)量可靠，性價(jià)比高，環(huán)保節(jié)能、返修率低，遠(yuǎn)銷到歐洲，美國(guó)，日本，德國(guó)等許多國(guó)家，廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域，受到客戶*好評(píng)。

　　科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠(chéng)信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營(yíng)理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進(jìn)步和社會(huì)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

展開(kāi)

真空管式爐，高溫箱式爐，高速震動(dòng)球磨機(jī)，RTP快速退火爐，高溫高壓爐，涂覆機(jī)，電池制備設(shè)備等

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對(duì)于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過(guò)5種元素，按16種不同配比組合。

技術(shù)參數(shù)

概念	5個(gè)濺射頭安裝5種不同材料通過(guò)不同的濺射時(shí)間，5種材料可以濺射出不同組分的產(chǎn)物，選擇5個(gè)等離子射頻電源，可在同一時(shí)間濺射5種材料真空腔體中安裝有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可以制作16個(gè)樣品
電源	單相220 VAC, 50 / 60 Hz
射頻電源	一個(gè)13.5MHz,300W自動(dòng)匹配的射頻電源安裝在儀器上，并與靶頭相連接一個(gè)旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)可一次激活一個(gè)濺射頭。濺射頭可以在真空或等離子體環(huán)境中自動(dòng)切換可選購(gòu)多個(gè)射頻電源，同一時(shí)間濺射多個(gè)靶材。所有的濺射參數(shù)，都可由電腦設(shè)置
直流電源（可選）	可選購(gòu)直流電源，來(lái)濺射金屬靶材可配置5個(gè)直流或射頻電源，來(lái)同時(shí)濺射5中靶材
磁控濺射頭	5個(gè)1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層可在本公司額外購(gòu)買射頻線電動(dòng)擋板安裝在濺射腔體內(nèi) 設(shè)備中配有一循環(huán)水冷機(jī)，水流量為10L/min (1) (2) (3) (4)
濺射靶材	所要求靶材尺寸：直徑為25.4mm,zui大厚度3mm 濺射距離: 50 – 80 mm（可調(diào)）濺射角度: 0 – 25°（可調(diào)）配有銅靶和 Al₂O₃ 靶，用于樣品測(cè)試用可在本公司購(gòu)買各種靶材實(shí)驗(yàn)時(shí)，需要將靶材和銅片粘合，可通過(guò)導(dǎo)電銀漿粘合（可在本公司購(gòu)買導(dǎo)電銀漿）
真空腔體	真空腔體采用304不銹鋼制作腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L) 鉸鏈?zhǔn)角婚T，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）
樣品臺(tái)	直徑為150mm的樣品臺(tái)，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺(tái)，帶有10mm的孔洞，每次露出一個(gè)樣品接收濺射成膜。樣品臺(tái)尺寸：Φ150mm,可通過(guò)程序控制來(lái)旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜樣品臺(tái)可以加熱，zui高溫度可達(dá)600℃
真空泵	設(shè)備中配有一小型渦旋分子泵真空泵接口為KF40
石英振蕩測(cè)厚儀（可選）	可選購(gòu)精密石英振蕩測(cè)厚儀，安裝在真空腔體內(nèi)，實(shí)時(shí)測(cè)量薄膜的厚度，精確度為0.1 Å（需水冷）
凈重	60kg
質(zhì)量認(rèn)證	CE認(rèn)證
質(zhì)保	一年質(zhì)保期，終生維護(hù)
應(yīng)用注意事項(xiàng)	此款設(shè)備設(shè)置主要是在單晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的環(huán)境所用氣瓶上必須安裝減壓閥（可在本公司購(gòu)買），所用Ar氣純度為5N 為了得到較好質(zhì)量的薄膜，可以對(duì)基片進(jìn)行清洗用超聲波清洗機(jī)，用丙酮或乙醇作為清洗介質(zhì)，清除基片表面的油脂，然后在N2氣或真空環(huán)境下對(duì)基片干燥等離子清洗機(jī)，可使基片表面粗糙化，改變基片表面化學(xué)活性，清除表面污染物可在基片表面鍍上緩沖層，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金屬或合金膜的粘附性濺射一些非導(dǎo)電靶材，其靶材背后必須附上銅墊片本公司實(shí)驗(yàn)室成功地在Al2O3基片上成功生長(zhǎng)出ZnO外延膜因?yàn)闉R射頭連接著高電壓，所以用戶在放入樣品或更換靶材時(shí)，必須切斷電源不可用自來(lái)水作為冷卻水，以防水垢堵塞水管。應(yīng)該用等離子水，或冷卻介質(zhì)