產品賣點

SCR和SNCR脫硝裝置氨逃逸在線分析的*選擇

可以實現SCR和SNCR脫硝裝置出入口煙道NH3的單點在線監測和多點濃度分布在線監測

全程250℃高溫抽取式測量，樣氣輸送管道小于0.5米，過程中無冷凝和吸附

引進國外激光多次反射池技術，光程可達30米，檢測靈敏度更高

無零漂的鎖譜激光分析技術，免除儀表頻繁校準的煩惱

系統中可內置高溫NOX和O2傳感器，實現NH3、NOX和O2的全部高溫濕法測量

系統介紹

　　在脫銷工藝氣體監測中，出口的氨逃逸（殘余氨）濃度檢測非常重要，這是因為氨逃逸是反映和考評脫銷效率的指標之一，同時過量的氨逃逸會生成銨鹽嚴重影響后續空預器等設備正常運行，因此NH3逃逸監測也是目前國內脫銷工藝中煙氣監測的重點和難點。HM-NH1000脫硝氨逃逸在線監測系統是我公司引進國外多次反射池技術針對脫硝的工藝特點和監測難點而開發設計的一款全程超高溫原位抽取式激光監測分析系統。適用于眾多工業領域的氣體排放監測和過程控制，例如：燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、核電站、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等領域。

脫硝系統原理圖

系統特點

光纖分布技術-實現主機與現場光學發射接收單元分離，可使一臺主機同時監測4個測點。

　　　無需校正技術-分析儀采用內置標準氣體參比模塊，實時鎖住氨氣吸收譜線，不受溫度、電源以及系統部件老化影響，系統無漂移，避免了系統定期校正煩惱。

　　　氣、鏡分離的多次反射池技術，多次反射池有效光程達到30米，靈敏度可達0.1ppm，被測氣體與反射鏡分離不接觸，氣體干擾不會影響儀表測量精度和反射鏡腐蝕。

　　　所有樣品接觸部分均溫控到250℃，避免NH3與SO3產生NH4(HSO4)，造成采樣損失。

　　　原位抽取采用方式沒有采樣管線，樣品氣體直接進入多次反射池，避免采樣損失。

　　　采樣探頭采用技術精密過濾器，氣阻小，過濾精度高，氣體池光學鏡片無吹掃。

　　　可實現單點檢測和濃度場分布檢測，一個機組可實現Ａ、Ｂ側一拖二技術、性價比高。

　　　可實現NH3、NOX和O2三組分同時檢測。

　　　系統中無任何運動部件，可靠性高、響應速度快。

　　　采用高溫抽取法測量NH3，與原位法相比，具有不受煙道內粉塵、溫度、壓力波動的影響，系統免維護。

系統技術參數列表

1. 系統配置
2. HM10-NH3　　　適用于所有SCR/SNCR脫硝煙道單點監測
3. HM20-NH3　　　適用于一個機組的A、B煙道或自備電廠兩個小機組單獨煙道監測
4. HM30-NH3　　　適合自備電廠3-4個小機組的單獨煙道監測或者SCR出口煙道分布
5. HM40-NH3　　　  　式濃度監測

1. 技術參數
2. 　　　TDLAS
3. 　　　NH3  (可增加NOx 和O2)
4. NH3：0-10ppm
5. NOx：0-1000ppm
6. O2： 0-21%
7. 　　　　　　　NH3：0.1ppm
8. NOx：1ppm
9. O2： 0.01%
10.            NH3：±0.1ppm
11. NOx：±3%F S
12. O2：±1% F S
13.       　　　≤1S
14. 　　　30米
15. 　　　全程250℃
16. 　　　≤30min
17. 　　　0-500℃
18. 　　　1200、1500
19. 　　　IP55
20. 　　　AC220V 50HZ ±10%
21.       　　　4-20mA 隔離輸出，zui大負載500Ω負載（曾加NOX和O2時有
22. 3 組4-20mA輸出）
23. 　　　RS232、以太網
24.       　　　2路（干接點 220V 1A）

1. 工作環境
2. -20—85℃
3. -5—55℃

4. 工作所需能源介質

• AC220V 50HZ ±10%  3000W
• 0.4-0.7MPa（凈化儀表壓空）